[发明专利]一种光电器件及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及半导体领域，具体涉及一种能同时产生光电效应与电致发光的器件及其制备方法。

背景技术

由于纳米材料尤其是量子点、纳米异质结具备与大块材料不同的能带结构，在光电领域具备巨大的应用潜力。如中国发明专利CN103943733A公开了一种基于垂直纳米线的LED超平行光源的制备方法,其光源采用垂直硅纳米线的Si-CdS异质pn结,微透镜采用凹面镜。制备方法具体包括:首先制备圆点掩模板以确定硅纳米线的大小;然后使用ICP-RIE干法刻蚀技术制备硅纳米线;并且热氧化硅纳米线,去除硅纳米线顶端部分部氧化层;溅射多晶CdS薄膜,以形成Si-CdS异质结;最后以Si-CdS异质结为中心,采用淀积技术得到凹面镜,并且,凹面镜的轮廓为抛物线形。该发明利用硅基纳米Si-CdS异质pn结的发光特性,结合微型凹面镜制备工艺,实现了简单、集成、高效的超平行光的发射。

中国发明专利CN105742430A提供了一种LED外延结构,包括衬底,依次层叠形成在所述衬底上的GaN成核层、非掺杂GaN层、N型GaN层、异质结层以及P型GaN层;还包括设置在所述N型GaN层与所述异质结层之间的SiNx层,所述SiNx层形成有若干贯通的纳米孔洞。由于SiNx层具有纳米多孔结构,能有效降低异质结层形成的有源区的位错密度,从而减少有源区的非辐射复合中心,提高所述LED外延结构的内量子效率。另外,原位生长的具有纳米多孔结构的SiNx层还能减小光的全反射损失,提高所述LED外延结构的出光效率。该方法方法简单易实施,不但工艺成本低,而且能够有效保证产品良率。

电致发光是光电领域另一个重要的问题，也是当前所有显示器及显示技术的基础。近几十年以来，显示技术也在不断进行更新换代，人们不断寻找更低耗、有效的发光技术。如中国发明专利102394263公开了一种增强n-ZnO/AlN/p-GaN发光二极管的电致发光性能的方法，该方法是在n-ZnO/AlN/p-GaN发光二极管的n-ZnO薄膜中插入一层Ag纳米颗粒，利用Ag局域态表面等离激元与ZnO近带边发光强的相互耦合作用，来提高n-ZnO/AlN/p-GaN异质结发光二极管电致发光性能。实验发现Ag纳米颗粒的局域态表面等离激元共振峰与ZnO近带边发光峰的位置相近，满足共振耦合条件，且粗糙的Ag纳米颗粒的表面有利于等离激元有效耦合成光且能够明显提高光的抽取效率。利用该发明，显著提高了n-ZnO/AlN/p-GaN异质结发光二极管电致发光性能。

中国发明专利102308669A提供了一种包括通过从场发射器阴极跨过一间隙将电子注入纳米结构半导体材料而发光的方法和装置,电子从分开的场发射器发出且通过穿过间隙的电压朝着形成阳极的一部分的纳米结构材料的表面加速。在纳米结构材料处,电子经过电子-空穴(e-h)复合而产生电致发光(EL)发射。在优选的实施例照明装置中,真空外壳容纳场发射器阴极。该真空外壳也容纳阳极,该阳极与所述阴极隔开一间隙且设置为接收从阴极发射的电子。该阳极包括半导体发光纳米结构,其接收来自阴极的电子注入且响应于该电子注入产生光子。外部电极接触允许在阳极和阴极间施加电压差,以从阴极激发电子发射并从该阳极的半导体发光纳米结构产生光子发射。

然而，当前，随着半导体的发展，能够产生光电效应的器件已经非常多，能够产生电致发光的器件也非常多，但是，当前产生光电效应与电致发光的器件是分立的，尚未出现能够同时产生光电效应与电致发光的器件。这种器件将在发光、显示等领域产生重大作用。

发明内容

发明目的：为了制备一种能够同时产生光电效应与电致发光的器件，本发明所要解决的技术问题是提供了一种异质结纳米棒以及由此构成的器件及其制备方法。

为实现上述目的，上述的异质结纳米棒以及由此构成的器件的制备方法，包括以下步骤：

第一步，制备异质结纳米棒

1.采用CdO粉和磷酸正十八脂溶解在三正辛基氧膦中，合成Cd—ODPA复合物；

2.在合适的温度下注入S与三辛基（TOP）的混合物，搅拌；

3.注入碲的TOP溶液；

4.将得到的硫化镉/碲化镉纳米棒沉淀溶解在氯仿中；

5.将十八烯、油酸和乙酸锌混合均匀,脱气、搅拌后，将2毫升的CdS/CdTe纳米棒溶液注入；

6.将反应混合物蒸发、加热，并在加热过程中，将碲的TOP溶液从顶部慢慢注入到反应混合物中，然后冷却至室温；由此产生含异质结纳米棒的溶液；

7．用氯仿、甲醇的混合溶剂沉淀法纯化、离心分离,得到异质结纳米棒；