[发明专利]一种基于窗口的双重图形版图配色方法

说明书

一种基于窗口的双重图形版图配色方法，属于集成电路可靠性设计领域。本发明利用窗口作为最基础单元，将跨窗口图形设为最高优先级，进行预处理，在窗口内部使用奇数环理论，通过窗口的迭代进行版图的配色。采用本发明所述的版图颜色分配方法，可以有效地对版图进行颜色分配，减少缝合点和光刻热点数目，提高版图的可制造性。

技术领域

本发明属于集成电路可靠性设计，具体涉及一种基于窗口的双重图形版图配色方法。

背景技术

随着工艺尺寸的不断缩小，互连线宽度持续缩小，芯片的制造对于光刻分辨率的需求持续增加。进入45nm节点以后，受光刻影响的良率已经达到了50％以上，光刻技术成为了制约半导体技术发展的瓶颈。工业上使用的193nm光刻波长已经达到了分辨率极限，而极紫外光刻技术仍有许多问题亟待解决，继续使用ArF光源，版图的制造只能使用双重图形甚至多重图形技术来实现。

双重图形技术的关键思想是将原版图图形分解到两张不同的掩膜版上，从而增加图形间距和改善焦深(Depth of Focus，DOF)。双重图形技术的首要环节是对设计图形进行分解。分解工作实际上是对设计图形定义分解规则，通过拆分解决违规部分的过程。违规部分即为小于双重图形曝光技术最小间距的部分，分解后的图形必须满足事先设定的基于工艺承受能力的分解规则。然而在双重图形技术的间距限制之下，实际的设计当中，这样的分解并不总是可行的，尤其是在具有复杂图形的金属层中。对于不能分解的版图，最为简单的方法是去修改设计，但是这样的代价十分高昂。另一种方法是将一个多边形拆分为两部分来消除分解冲突。这样会引入缝合点，缝合点极易造成交叠误差，引起桥连等问题。

为了减少传统双重图形版图分割方法引入的大量缝合点，缓解芯片在光刻过程中产生畸变的程度，本发明提出一种基于窗口的双重图形颜色分配方法。

发明内容

为了有效地实现双重图形技术，减少传统方法中对于缝合点的引入，进一步提高版图的可制造性，本发明提出一种基于窗口的双重图形版图配色方法。

为了达到上述目的，本发明的技术方案为：

一种基于窗口的双重图形版图配色方法，包括以下步骤：

第一步，根据原始版图大小，将版图拓展为正方形。

所述的拓展方法具体为：原始版图为方形，其边长为p、q；假设拓展后的正方形边长为L＝10k，其中，k为正整数，则要求k为大于的正整数，此为条件一。

第二步，将拓展后版图划分为若干边长为R的正方形迭代窗口，用于双重图形版图配色。假设迭代窗口数目为n＝4^I，其中，I为正整数，根据面积关系，则有n·R²＝100k²,即此为条件二，为避免引入过多空白窗口，提高迭代效率，在满足条件一、条件二的基础上，取k的最小值。

所述的双重图形版图配色具体为：版图划分后，提取出跨窗口边界的图形，并对上述提取的图形进行预配色，即对其中存在冲突的图形进行预配色，减少迭代过程中计算量；最后进行窗口的迭代配色；上述预配色和迭代配色过程中，如果出现通过配色无法消除的冲突时，需引入缝合点，将该图形一分为二，消除冲突后，再对其进行配色。

所述的窗口的迭代配色具体过程为：

第一轮迭代为：对n个迭代窗口依次进行配色；

第二轮迭代为：每四个第一轮的迭代窗口构成一个第二轮的迭代窗口，对n/4个迭代窗口依次进行配色。

第三轮迭代为：每四个上一轮的迭代窗口构成一个新的迭代窗口，对迭代窗口依次进行配色；重复上述步骤，直至最后一轮迭代窗口的个数为1，完成的双重图形版图的配色。