[发明专利]一种调节和确定饱和温度的方法在审
申请号: | 201710320721.4 | 申请日: | 2017-05-09 |
公开(公告)号: | CN108865270A | 公开(公告)日: | 2018-11-23 |
发明(设计)人: | 王万利 | 申请(专利权)人: | 王万利 |
主分类号: | C10J3/02 | 分类号: | C10J3/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 255311 山东省淄博市周村*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氧化层 饱和 循环位置 蒸汽压力 升高 上升距离 下降距离 气化效率 上升过程 温度显示 温度周期 下降过程 循环过程 中后部 炉篦 煤气 生产 | ||
一种调节和确定饱和温度的方法,涉及煤气的生产方法,包括,升高饱和温度,氧化层上升,上升距离与蒸汽压力有关;升高饱和温度,氧化层上升距离基本等于氧化层循环位置上升距离;降低饱和温度,氧化层下降,下降距离与蒸汽压力有关;降低饱和温度,氧化层下降距离基本等于氧化层循环位置下降距离;饱和温度周期循环。氧化层循环位置低,升高饱和温度,或升高蒸汽压力,或调节二者。氧化层循环位置高,降低饱和温度,或降低蒸汽压力,或调节二者。氧化层循环过程中,氧化层上升过程,升高饱和温度,氧化层下降过程中后部,降低饱和温度。温度显示的氧化层当作氧化层循环位置。本发明优点,提高气化效率,降低劳动强度,炉篦寿命长。
技术领域
本发明涉及煤气的生产方法。
背景技术
现有技术,没有饱和温度变化与氧化层位置的关系,易出现二个温度显示的氧化层,易结渣,易烧坏炉篦,气化效率低。氧化层循环位置低,不调节蒸汽压力,只是降低饱和温度,或降低饱和温度1-3h后,饱和温度恢复到降低饱和温度之前的温度,易烧坏炉篦,气化效率低。确定饱和温度,依据煤粒度大小、水分含量、灰份含量、灰溶点,长时间运行确定,没有直观、统一的标准,常不是最佳饱和温度和对应的最佳蒸汽压力。调节饱和温度时间不确定,气化效率波动大。
发明内容
为了解决上述问题,本发明提供一种依据氧化层循环位置,调节和确定饱和温度的方法,本发明没有特别说明,氧化层指正在发生氧化层化学反应的燃料层,消耗大部分氧气,氧化层长度70-150mm。
为了实现上述目的,本发明提供一种调节和确定饱和温度的方法,饱和温度范围40-65℃,其中,单段炉50-65℃,两段炉40-60℃,其特征是,包括:
饱和温度每升高1℃,氧化层上升6-100mm,其一,气化剂混合前,蒸汽压力小,气化剂混合后压力增量小,氧化层上升距离小,气化剂混合前,蒸汽压力大,气化剂混合后压力增量大,氧化层上升距离大,其二,气化剂通过气化剂混合器,蒸汽压力减量大,气化剂压力增量小,氧化层上升距离小,气化剂通过气化剂混合器,蒸汽压力减量小,气化剂压力增量大,氧化层上升距离大,气化剂混合角度不同,气化剂通过气化剂混合器,蒸汽压力减量不同,氧化层上升距离不同,气化剂混合器长度不同,气化剂通过气化剂混合器,蒸汽压力减量不同,氧化层上升距离不同,其三,基本饱和温度低,气化剂蒸汽含量增量小,氧化层上升距离小,饱和温度高,气化剂蒸汽含量增量大,氧化层上升距离大,确定了升高饱和温度与氧化层上升的关系;
升高饱和温度,减少或消除因升高饱和温度导致的蒸汽压力变化,需要1-5个氧化层循环周期,升高的饱和温度稳定、蒸汽压力稳定,作用,升高的氧化层循环位置稳定,升高饱和温度,氧化层上升导致氧化层循环位置上升,因升高饱和温度,氧化层上升距离基本等于氧化层循环位置升高距离,氧化层位置难测量,氧化层循环位置容易测量,其一,氧化层循环位置主要是除渣和停除渣循环,导致的氧化层位置循环,包括伴随的饱和温度循环导致的氧化层位置循环,其次是蒸汽压力循环导致的氧化层位置循环,和蒸汽压力循环伴随的饱和温度循环导致的氧化层位置循环,不包括,加煤和加煤后,煤气压力循环导致的氧化层位置循环,和伴随的饱和温度循环导致的氧化层位置循环,气化剂空气、氧气流量小,氧化层循环位置短,气化剂空气、氧气流量大,氧化层循环位置长,其二,氧化层循环是下述过程:氧化层上升60-180mm,小于、等于氧化层长度,或大于氧化层长度60mm之内,1-4min;氧化层下降60-180mm,小于、等于氧化层长度,或大于氧化层长度60mm之内,减少蒸汽压力降低,之后蒸汽压力自然升高,单段炉9-11min,两段炉13-16min;氧化层下降过程后部,减少或消除氧化层上升因素,单段炉2-5min,两段炉4-10min;上述三个环节是一个周期,单段炉12-20min,两段炉18-30min,循环,氧化层上升距离基本等于氧化层下降距离,蒸汽压力降低值基本等于蒸汽压力升高值,分别小于或等于0.02MPa;
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