[发明专利]一种电路板酸碱蚀刻废液回收处理工艺在审

专利信息
申请号: 201710321291.8 申请日: 2017-05-09
公开(公告)号: CN108862365A 公开(公告)日: 2018-11-23
发明(设计)人: 戴武军;董关羽 申请(专利权)人: 广东省博罗县湘澧精细化工有限公司
主分类号: C01G3/10 分类号: C01G3/10;C01C1/16;C01G3/12
代理公司: 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人: 许志勇
地址: 516199 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 电路板 蚀刻废液 酸碱 回收处理工艺 碱式氯化铜 氧化铜 碱性蚀刻废液 酸性蚀刻废液 蚀刻液回收 沉淀形成 处理工艺 碱性溶液 减少排放 中和反应 硫酸铜 浓硫酸 蚀刻液 铜离子 洗水 调配 环境保护 申请
【说明书】:

本申请公开了一种电路板酸碱蚀刻液回收处理工艺,其通过将将酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液中和反应生成碱式氯化铜后,将碱式氯化铜与碱性溶液反应形成氧化铜,再将氧化铜与浓硫酸反应生成硫酸铜,并收集各反应中的滤液和洗水。本发明的电路板酸碱蚀刻废液回收处理工艺通过多个步骤,逐一将铜离子沉淀形成不同的含铜产物,操作简单,成本低廉,可以大批量地处理蚀刻废液,同时充分利用处理后的滤液重新调配蚀刻液,提高经济效益的同时,减少排放,有利于环境保护。

技术领域

本申请属于废液回收技术领域,具体地说,涉及一种含电路板酸碱蚀刻废液回收处理工艺。

背景技术

随着电子行业的飞速发展,印刷电路板的产量也随之逐年增加,在制造印刷电路板的蚀刻工序中,需要使用大量碱性蚀刻液或酸性蚀刻液。这些蚀刻液在使用完毕后形成蚀刻废液,蚀刻废液中含有大量的铜离子和可以重复利用配置蚀刻液的离子如氯离子。现有的蚀刻废液回收处理方法有:如发明专利CN102206823A中所记载的电解处理法,该方法的缺点是工艺复杂、投资大;溶剂萃取法,即将萃取剂加入到碱性蚀刻废液中,得到含铜溶液及蚀刻再生液,该方法的缺点是需要使用昂贵的萃取剂、工艺繁琐;以及用还原提纯铜的方法,例如,发明专利CN102019430A中所记载的用水合肼还原来提纯铜的方法,该方法的缺点是工艺控制复杂,成本高;采用蒸发结晶法使蚀刻废水中和后的氯化铵结晶析出,该方法能耗高且速度慢。

发明内容

针对现有技术中的问题,本发明的目的是提供一种电路板酸碱蚀刻废液回收处理工艺。

为了解决上述技术问题,本申请揭示了一种电路板酸碱蚀刻废液回收处理工艺,包括以下步骤:

(1)将酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液分别储存于酸性储罐和碱性储罐中,检测酸性蚀刻废液中是否含有亚铜离子,加入氧化剂将亚铜离子氧化为铜离子;

(2)将步骤(1)中的酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液交替抽入中和罐内,二者混合反应,直至混合液的PH值为5.1,并生成含有碱式氯化铜的固体;

(3)将含有碱式氯化铜的固体与液体分离,并洗涤固体,洗涤完毕后将固体送入打浆罐中加水混合形成碱式氯化铜浆体,将分离的液体中加入硫化钠溶液,硫化钠溶液与液体中的铜离子形成硫化铜沉淀物,滤出硫化铜沉淀物,向滤液中加入氧化剂氧化硫离子,再将滤液用于配制蚀刻液;

(4)将碱式氯化铜浆体置于反应釜中,向反应釜内加入碱性溶液,直至浆体的PH值为13,再加热反应釜,使反应釜的温度处于85℃—100℃并保持10分钟,再停止加热,使反应釜降温至60℃,反应生成氧化铜浆液和氨气,将氨气送入氨气吸收塔中生成氯化铵溶液;

(5)将氧化铜浆液的液体滤除,得到氧化铜固体,多次洗涤氧化铜固体,去除可溶性杂质后,将氧化铜固体物从反应釜中卸出,将滤液的PH值调节至中性后,用于配制蚀刻液;

(6)将部分所述氧化铜固体物送入打浆罐中,再加水混合形成氧化铜浆体,将氧化铜浆体置入硫酸反应釜中,向硫酸反应釜内加入浓硫酸,生成硫酸铜溶液,将硫酸铜溶液冷却结晶,制得硫酸铜晶体;

(7)检测步骤(3)和步骤(5)的滤液中的成分,调配酸性蚀刻液和碱性蚀刻液。

根据本申请的一实施例,上述步骤(1)和步骤(3)的氧化剂为过氧化氢溶液。

根据本申请的一实施例,上述步骤(4)的碱性溶液为氢氧化钠溶液。

与现有技术相比,本发明可以获得包括以下技术效果:

本发明的电路板酸碱蚀刻废液回收处理工艺通过多个步骤,逐一将铜离子沉淀形成不同的含铜产物,操作简单,成本低廉,可以大批量地处理蚀刻废液,同时充分利用处理后的滤液重新调配蚀刻液,提高经济效益的同时,减少排放,有利于环境保护。

具体实施方式

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