[发明专利]碲化锌单晶的制备方法有效

专利信息
申请号: 201710321706.1 申请日: 2017-05-09
公开(公告)号: CN107201548B 公开(公告)日: 2019-07-19
发明(设计)人: 刘长友;汤庆凯;姬磊磊;肖宝;雷浩;谢鹏飞;介万奇 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: C30B29/48 分类号: C30B29/48;C30B11/00
代理公司: 西北工业大学专利中心 61204 代理人: 王鲜凯
地址: 710072 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 碲化锌单晶 制备 晶体生长 石英坩埚 放入 晶体生长炉 关闭电源 生长过程 温度梯度 多晶料 高真空 质量差 碲单质 碲化锌 高纯 炉冷 熔封 温场 温区 中温 坩埚 加热 保温 合成
【说明书】:

发明公开了一种碲化锌单晶的制备方法,用于解决现有方法制备的碲化锌单晶质量差的技术问题。技术方案是将高纯的碲单质和合成的碲化锌多晶料放入石英坩埚中,在高真空下熔封。然后,将石英坩埚放入ACRT型五温区晶体生长炉中。首先以一定的升温速率加热,得到预先设定的温场,保温一段时间,坩埚以0.1‑0.2mm/h的速率下降,晶体生长的温度梯度为10±1℃/cm和结晶温度为1060±1℃;生长过程中温场一直不变,晶体生长后以3℃/h降温,降温时间为50h,然后以5℃/h的速率降温,降温时间为100h,最后关闭电源,炉冷。获得了具有足够长度、结晶质量好的ZnTe晶体。

技术领域

本发明属于Ⅱ-Ⅵ族半导体材料制备领域,特别涉及一种碲化锌单晶的制备方法。

背景技术

ZnTe为II-VI直接带隙的化合物半导体,室温带隙宽度为2.26eV,可用于制备黄色和绿色发光二极管(LED)和激光二极管(LD)。ZnTe具有良好的相位匹配特性和较好的光电性质,作为光整流产生和探测THz辐射的器件具有很大的应用价值。相对于其它的II–VI族化合物半导体材料,ZnTe的生长及表征的研究相对较少,缺乏足够的实验结果来支撑晶体制备及器件研究工作的深入展开。目前,ZnTe晶体的价格高,结晶质量还有待提高,严重制约相关研究的开展。因此,高效地生长出高质量的ZnTe体单晶是非常关键的。

根据生长ZnTe单晶的母相不同,可以将制备碲化锌单晶的方法分为:气相法、熔体法、溶剂法。气相法生长ZnTe晶体是将多晶料密封在坩埚中,然后置于有温度梯度的生长炉中,利用原材料的升华、气相输运及重结晶生长出晶体。熔体法生长ZnTe晶体时原料符合化学计量比,在一维温度梯度中,熔体随温场的降低,晶体进行定向生长。溶剂法生长ZnTe晶体是从添加了可以降低体系结晶温度的溶剂的溶液中生长ZnTe晶体,通常选用Zn或Te溶剂。

文献1“Uen W Y,Chou S Y,Shin H Y,et al.Characterizations of ZnTe bulksgrown by temperature gradient solution growth[J].Materials Science andEngineering:B,2004,106(1):27-32.”公开了一种制备ZnTe单晶的方法,该方法是从添加了降低体系结晶温度的溶剂的溶液中析出ZnTe单晶体。该方法生长晶体中,溶质的析出温度线是非线性下降的,给温场的控制带来诸多的不便。由于降温析出,会导致不同时间析出晶体中的过饱和固溶Te含量或Te沉淀相的分布不均匀。并且随着晶体的生长进行,溶液越稀薄,导致后析出的晶体可能出现比较多的夹杂相及相关诱生缺陷,晶体的质量低。

发明内容

为了克服现有方法制备的碲化锌单晶质量差的不足,本发明提供一种碲化锌单晶的制备方法。该方法将高纯的碲单质和合成的碲化锌多晶料放入石英坩埚中,在高真空下熔封。然后,将石英坩埚放入ACRT型五温区晶体生长炉中。首先以一定的升温速率加热,得到预先设定的温场,保温一段时间,坩埚以0.1-0.2mm/h的速率下降,晶体生长的温度梯度为10±1℃/cm和结晶温度为1060±1℃;生长过程中温场一直不变,晶体生长后以3℃/h降温,降温时间为50h,然后以5℃/h的速率降温,降温时间为100h,最后关闭电源,炉冷。获得了具有足够长度、结晶质量好的ZnTe晶体。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案:一种碲化锌单晶的制备方法,其特点是包括以下步骤:

步骤一、清洗两根石英坩埚上的油污,并将石英坩埚浸泡在分析纯丙酮中24h;将石英坩埚浸泡在浓盐酸和浓硝酸体积比为3:1的溶液中24h;将石英坩埚浸泡在浓度为10%的氢氟酸溶液中30min,取出石英坩埚,用去离子水清洗,于100℃下烘干。

步骤二、将纯度为99.9999%的锌和碲单质原料装入清洗处理后的第一石英坩埚中,抽真空至10-5Pa量级时熔封,合成多晶料。

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