[发明专利]一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极在审
| 申请号： | 201710322187.0 | 申请日： | 2017-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN108728808A | 公开（公告）日： | 2018-11-02 |
| 发明（设计）人： | 李伟;张奇龙 | 申请（专利权）人： | 杭州朗为科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310000 浙江省杭州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁钢 靶材 磁控溅射阴极 靶材利用率 磁轭 刻蚀 左右对称分布 阴极 磁路闭合 磁路结构 镀膜效果 工作效率 磁力 传统的 对称轴 洁净度 均匀性 真空室 对靶 膜层 磁场 平坦 保证 生产 | ||
【权利要求书】：
1.一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极，包括磁钢（1）和磁轭（2），其特征在于，一个阴极包括七道磁钢（1），一个所述磁轭（2）与七道磁钢（1）通过磁力相连接，相邻的两道磁钢（1）互相磁路闭合，所有的磁钢（1）均以正中间磁钢（1）为对称轴左右对称分布，且所有的磁钢（1）共同形成U字型的磁场。
2.根据权利要求1所述的一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极，其特征在于，七道磁钢（1）非等距离分布。
3.根据权利要求1所述的一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极，其特征在于，七道磁钢（1）非等高度。
4.根据权利要求1所述的一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极，其特征在于，七道磁钢（1）非等宽度。
5.根据权利要求1所述的一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极，其特征在于，每道磁钢（1）内均含有若干个磁钢（1）。
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