[发明专利]腔室清洁系统

说明书

提供了一种包括腔室和管的腔室清洁系统，所述管与腔室的主体的顶表面的内侧与主体的侧表面相遇的位置相邻安装，其中，所述管具有在所述管的长度方向上按照预定间隔形成在所述管的外周表面的面向顶表面和侧表面的位置处的多个喷孔。

技术领域

本发明的实施方式涉及腔室清洁系统。

背景技术

在制造诸如半导体装置和平板显示装置的集成电路装置时，至关重要的是管理诸如颗粒的污染源。具体地讲，在制造需要精细图案的现代集成电路装置时，需要彻底 地管理污染源。

在制造装置时，管理源自处理设备的污染源以及源自制造工艺的污染源。这是因为如果没有管理源自处理设备的上述污染源，它们会对制造工艺带来致命影响。即， 在等离子体蚀刻中，在蚀刻工艺中生成的蚀刻颗粒可被吸附到蚀刻腔室的内壁。当没 有执行用于去除蚀刻颗粒的清洁工艺时，在随后的蚀刻工艺期间蚀刻颗粒可从蚀刻腔 室的内壁脱离，从而充当污染源，因此在蚀刻工艺之后执行清洁工艺以去除蚀刻颗粒。

因此，工艺腔室的内部应该保持清洁以防止污染。为此，处理设备的腔室包括设备风扇单元(EFU)以用于从腔室的一个区域向其相对区域送风。优选的是，EFU形 成在腔室的上部以向其下部送风。这使得异物由于其重量而下落至下部从而被排出。 如图1和图2所示，使用这种EFU的腔室清洁系统具有未被清洁的死角区。

发明内容

本发明致力于提供一种可去除腔室的未被清洁的死角区的腔室清洁系统。

根据本发明的一方面，提供了一种包括腔室和管的腔室清洁系统，所述管与腔室的主体的顶表面的内侧与主体的侧表面相遇的位置相邻安装，其中，所述管具有在所 述管的长度方向上按照预定间隔形成在所述管的外周表面的面向顶表面和侧表面的 位置处的多个喷孔。

所述多个喷孔可在所述管的长度方向上按照预定间隔形成在相对于外周表面的面向顶表面的位置成30度至50度倾斜的位置处。

该腔室清洁系统还可包括与喷孔组合的喷嘴。

该腔室清洁系统还可包括作为一体形成在腔室的主体的上部的设备风扇单元。

所述管可包括沿着所述管的外周按照预定角间隔并且在所述管的长度方向上按照间隔形成的多个喷孔。

附图说明

对于本领域普通技术人员而言，通过参照附图详细描述其示例性实施方式，本发明的以上和其它目的、特征和优点将变得更显而易见，附图中：

图1和图2是示出一般腔室中的EFU所导致的气流的示图；

图3是示意性地示出根据本发明的实施方式的腔室清洁系统的示图；

图4是根据本发明的实施方式的顶表面被去除的腔室清洁系统的平面图；

图5是示出根据本发明的实施方式的清洁系统的管及其一部分的放大图；

图6是示出根据本发明的实施方式的安装有喷嘴的清洁系统的管的示图；以及

图7是示意性地示出根据本发明的实施方式的从清洁系统的管的喷嘴喷射的气体的方向的示图。

具体实施方式