[发明专利]稳定微弧氧化槽液pH值的方法及装置

权利要求书

1.一种稳定微弧氧化槽液pH值的方法，其特征在于，包括下列步骤：

步骤一：清洁工件表面残留水滴步骤，工件置于清洗槽中清洗，清洗后提升工件至清水风机位置，打开清水风机，对工件进行清洁，直至工件表层无残留水滴；

步骤二：减少微弧氧化槽液水分蒸发步骤，清洗槽中已清洁工件移至氧化槽槽液中，通过转轴转动闭合盖板，开启散热风机，开始微弧氧化；

步骤三：回收工件表面残留碱液步骤，微弧氧化后，通过转轴转动打开盖板，提升工件至清碱风机位置，打开清碱风机，使工件表层残留碱液回流至氧化槽，直至工件表层无残留碱液，取出工件。

2.一种稳定微弧氧化槽液pH值的装置，其特征在于，包括：清洗槽、氧化槽，其中，清洗槽内设置清水风机，氧化槽内设置盖板、转轴、散热棒、散热风机和清碱风机。

3.如权利要求2所述的稳定微弧氧化槽液pH值的装置，其特征在于，所述清水风机固定于清洗槽侧壁。

4.如权利要求2所述的稳定微弧氧化槽液pH值的装置，其特征在于，所述盖板为两块，两块盖板接触面设置垂直孔，用以放置夹具，盖板底部为锯齿状，并覆盖憎水膜。

5.如权利要求2所述的稳定微弧氧化槽液pH值的装置，其特征在于，所述转轴固定于氧化槽侧壁，转轴与盖板连接，盖板通过转轴转动实现闭合与打开。

6.如权利要求2所述的稳定微弧氧化槽液pH值的装置，其特征在于，所述散热棒一端固定于氧化槽侧壁，另一端靠近工件，将反应产生热量传递至散热风机。

7.如权利要求2所述的稳定微弧氧化槽液pH值的装置，其特征在于，所述散热风机固定于氧化槽侧壁，并与散热棒连接。

8.如权利要求2所述的稳定微弧氧化槽液pH值的装置，其特征在于，所述清碱风机固定于氧化槽侧壁。