[发明专利]一种八英寸半导体硅片细线细砂化切割工艺在审

专利信息
申请号: 201710339464.9 申请日: 2017-05-15
公开(公告)号: CN107030908A 公开(公告)日: 2017-08-11
发明(设计)人: 陈桐;郭红慧;赵勇;王帅;韩木迪;刘建伟;王彦君;李立伟 申请(专利权)人: 天津市环欧半导体材料技术有限公司
主分类号: B28D5/04 分类号: B28D5/04
代理公司: 天津中环专利商标代理有限公司12105 代理人: 胡京生
地址: 300384 天津市滨海*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 英寸 半导体 硅片 细线 细砂 切割 工艺
【权利要求书】:

1.一种八英寸半导体硅片细线细砂化切割工艺,其特征在于:工艺分以下步骤,

①多线切割机采用0.12mm钢线、2500#绿碳化硅进行多线切割;

②进刀位置为0-100时,进刀速度0.45mm/min、钢丝速度882m/h、进给距离195m、返回距离155m、砂浆温度23℃、砂浆流量80L/min、分割数0;

③进刀位置为100-200时,进刀速度0.375 mm/min、钢丝速度882m/h、进给距离195m、返回距离155m、砂浆温度23℃、砂浆流量80L/min、分割数6;

④进刀位置为200时,进刀速度0.41 mm/min、钢丝速度882m/h、进给距离195m、返回距离155m、砂浆温度23℃、砂浆流量80L/min、分割数6。

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