[发明专利]可不开腔清洁阳极罩的磁控溅射装置及清洁方法

权利要求书

1.一种可不开腔清洁阳极罩的磁控溅射装置，包括腔体（101）、靶材（206）、以及安装于腔体（101）上的磁控靶（20）和旋转式的磁控靶挡板（106），其特征在于：所述腔体（101）外侧设有第一接头（304）、第二接头（308）及升降机构（301），所述第一接头（304）与所述腔体（101）之间设有绝缘件（305），所述第二接头（308）与所述腔体（101）连通，所述升降机构（301）与所述磁控靶挡板（106）连接，所述磁控靶（20）电源的阳极与所述腔体（101）连通，所述磁控靶挡板（106）与所述腔体（101）连通，所述靶材（206）通过第一导线（109）与所述磁控靶（20）电源的阴极连通，所述磁控靶（20）的阳极罩（203）通过第二导线（306）与所述第一接头（304）连通，所述磁控靶（20）包括固定座（201）和绝缘块（202），所述固定座（201）套设于所述绝缘块（202）上部外侧，所述阳极罩（203）套设于所述绝缘块（202）下部外侧，所述绝缘块（202）底部由内至外依次设有磁轭（211）、冷却罩（205）及阴极罩（204），所述阳极罩（203）位于所述阴极罩（204）外侧，所述磁轭（211）下部设有极性相反的磁铁（208），所述阴极罩（204）将所述靶材（206）压紧于所述冷却罩（205）下方，所述第一导线（109）与所述冷却罩（205）连通。

2.根据权利要求1所述的可不开腔清洁阳极罩的磁控溅射装置，其特征在于：所述磁控靶挡板（106）通过磁流体密封部件（307）引出至所述腔体（101）外，所述腔体（101）外对应设有用于驱动磁控靶挡板（106）旋转的旋转气缸（302），所述升降机构（301）与所述旋转气缸（302）连接。

3.一种权利要求1至2中任一项所述的可不开腔清洁阳极罩的磁控溅射装置的清洁方法，其特征在于：包括以下步骤：

S1、清洁准备：通过旋转运动和升降运动调整磁控靶挡板（106）的位置，使磁控靶挡板（106）与磁控靶（20）的阳极罩（203）之间可进行辉光溅射；第一导线（109）连接至第一接头（304）使阳极罩（203）与磁控靶（20）电源的阴极构成通路；

S2、清洁：磁控靶（20）电源在磁控靶挡板（106）与阳极罩（203）之间施加电压，腔体（101）中充入工艺气体，磁控靶挡板（106）与阳极罩（203）之间产生辉光溅射，将阳极罩（203）上的镀层原子溅出。