[发明专利]基于微孔基材的双面挤压涂布方法及其双面涂布装置在审
申请号: | 201710348334.1 | 申请日: | 2017-05-17 |
公开(公告)号: | CN106964526A | 公开(公告)日: | 2017-07-21 |
发明(设计)人: | 杨志明 | 申请(专利权)人: | 深圳市信宇人科技股份有限公司 |
主分类号: | B05C9/04 | 分类号: | B05C9/04;B05C11/10;B05C9/14;B05D3/02;B05D1/26 |
代理公司: | 深圳市金笔知识产权代理事务所(特殊普通合伙)44297 | 代理人: | 胡清方,彭友华 |
地址: | 518000 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 微孔 基材 双面 挤压 方法 及其 装置 | ||
1.一种基于微孔基材的双面挤压涂布方法,其特征在于:
(1)、在片状的微孔基材(9)的一侧设置一个与所述微孔基材(9)相隔预定距离的第一挤压涂布头(1),所述第一挤压涂布头(1)将浆料间歇地涂布在与微孔基材(9)行进方向交叉的方向上的基材上;
(2)、在片状的微孔基材(9)的另一侧设置一个与所述微孔基材(9)接触的第二挤压涂布头(2),所述第二挤压涂布头的下唇(21)以线接触或面接触的方式与微孔基材(9)接触;所述第二挤压涂布头(2)将浆料间歇地涂布在与微孔基材(9)的行进方向交叉的方向上的基材上;
(3)、所述第一挤压涂布头(1)与所述第二挤压涂布头(2)隔着所述微孔基材(9)设置,所述第一挤压涂布头的涂布嘴(100)与所述第二挤压涂布头的涂布嘴(200)在所述微孔基材(9)上的投影是非重叠的;
(4)、用张力检测器检测第一挤压涂布头的涂布嘴(100)所对应的微孔基材(9)附近处的张力为F1,再检测所述微孔基材(9)的除第一挤压涂布头的涂布嘴(200)所对应的微孔基材(9)附近之外的任意一点的张力为F2,所述第二挤压涂布头的涂布嘴(200)设置在微孔基材(9)的F1和 F2的比值为1:0.8—1:0.4的F2对应处。
2.根据权利要求 1 或2所述的基于微孔基材的双面挤压涂布方法,其特征在于 :所述微孔基材(9)的行进是由牵引系统完成的,所述牵引系统包括位于烘箱(4)尾部的牵引部(31)和位于挤压涂布头之前的定速部(32),所述牵引部(3)用于给微孔基材(9)施力,让微孔基材(9)向后行进;所述定速部(32)用于保持微孔基材(9)行进速度处于恒定速度。
3.根据权利要求 1 或 2 所述的基于微孔基材的双面挤压涂布方法,其特征在于:所述微孔基材(9)在行进过程的转弯处或/和烘箱内是采用气浮的方式向上托的。
4.一种基于微孔基材的双面挤压涂布装置,其特征在于,包括:放卷装置(5)、收卷装置(6)、用于引导微孔基材(9)朝一个方向行进的牵引系统、以及设置在所述放卷装置(5)和收卷装置(6)之间的烘箱(4)、第一挤压涂布头(1)和第二挤压涂布头(2),所述第一挤压涂布头(1)设置在微孔基材(9)的一侧,并与所述微孔基材(9)非接触,所述第一挤压涂布头(1)将浆料间歇地涂布在与基材行进方向交叉的方向上的微孔基材上 ;所述第二挤压涂布头(2)设置在所述微孔基材(9)的另一侧 ;其中,所述第二挤压涂布头的下唇(21)以线接触或面接触的方式与微孔基材(9)接触;所述第二挤压涂布头(2)将浆料间歇地涂布在与微孔基材行进方向交叉的方向上的微孔基材上;所述第一挤压涂布头(1)与所述第二挤压涂布头(2)隔着所述微孔基材(9)设置,所述第一挤压涂布头的涂布嘴(100)与所述第二挤压涂布头的涂布嘴(200)在所述微孔基材(9)上的投影是非重叠的;第一挤压涂布头的涂布嘴(100)所对应的微孔基材(9)附近处的张力为F1,微孔基材(9)的除第一挤压涂布头的涂布嘴(200)所对应的微孔基材(9)附近之外的任意一点的张力为F2,所述第二挤压涂布头的涂布嘴(200)设置在微孔基材(9)的F1和 F2的比值为1:0.8—1:0.4的F2对应处。
5. 根据权利要求4所述的基于微孔基材的双面挤压涂布装置,其特征在于 :所述牵引系统包括位于烘箱(4)尾部的牵引部(31)和位于挤压涂布头之前的定速部(32),所述牵引部(31)用于给微孔基材施力,让微孔基材(9)向后行进 ;所述定速部(32)用于保持微孔基材(9)行进速度处于基本恒定速度。
6. 根据权利要求 4 所述的基于微孔基材的双面挤压涂布装置,其特征在于 :所述烘箱(4)包括外壳(41),在所述外壳(41)内设有数排向下喷热气的上喷头(42)和数排向上喷热气下喷头(43),所述微孔基材(9)在所述上喷头(42)和下喷头(43)之间行进。
7. 根据权利要求4、5 或 6所述的基于微孔基材的双面挤压涂布装置,其特征在于 :所述微孔基材(9)在行进过程的转弯处或/烘箱(4)内是采用气浮的方式向上托的。
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