[发明专利]地层沉积过程平面周期性分析方法

说明书

本发明涉及一种地层沉积过程平面周期性分析方法，涉及基础地质研究技术领域，用于获得可容纳空间平面变化趋势的周期性特征和沉积速率变化趋势的平面周期性特征，从而定量描述地层沉积过程在平面上变化趋势的周期性特征。本发明的方法包括获得可容纳空间平面变化趋势的周期性特征的步骤和获得沉积速率变化趋势的周期性的步骤。通过采用上述方法，能够获得测量区域的地层沉积过程的平面周期性变化特征，实现对地质沉积过程平面周期性规律进行定量分析的目的。

技术领域

本发明涉及基础地质研究技术领域，特别地涉及一种地层沉积过程平面周期性分析方法。

背景技术

现有技术能够获得地层格架中地层沉积过程的垂向周期性变化过程；或通过相带在不同地区的变化、沉降中心与沉积中心的迁移来研究沉积过程的平面周期性，未采用定量化的分析方法。但是目前尚不存在一种方法能够在基于等时间间距地层划分与对比的基础上定量分析某区域地层沉积过程的平面周期性变化特征。

发明内容

本发明提供一种不同采集参数地层沉积过程平面周期性分析方法，用于获得可容纳空间平面变化趋势的周期性特征和沉积速率变化趋势的平面周期性特征，从而定量描述地层沉积过程在平面上变化趋势的周期性特征。

本发明提供一种不同采集参数地层沉积过程平面周期性分析方法，包括以下步骤：

S10：获得目标区块的资料点，获得等时间间距地层单元内每个资料点的原始地层沉积厚度；

S20：将所述原始地层沉积厚度通过线性去沉降校正或非线性去沉降校正，获得每个地层单元的可容纳空间增量；

S30：对所述可容纳空间增量进行插值，获得可容纳空间增量变化趋势面；

S40：通过所述可容纳空间增量变化趋势面的参数在地质时间上的变化周期，获得可容纳空间平面变化趋势的周期性特征；

S50：对所述原始地层沉积厚度进行插值，获得原始沉积厚度趋势面；

S60：通过所述原始地层沉积厚度趋势面的参数的变化周期，获得沉积速率变化趋势的周期性。

根据本发明的一个实施例，步骤S20中，线性去沉降校正为所述原始地层沉积厚度分别与每个所述等时间间距地层单元的平均厚度相减。

根据本发明的一个实施例，步骤S20中，非线性去沉降校正为每个所述等时间间距地层单元单旋回厚度分别与预设步长的地层单元厚度的平均值相减。

根据本发明的一个实施例，步骤S30中，采用平面插值的方法对所述可容纳空间增量进行插值。

根据本发明的一个实施例，步骤S40中，所述可容纳空间增量变化趋势面的参数为倾向、倾角或方向倾角分量。

根据本发明的一个实施例，步骤S30中，采用平面插值的方法对所述原始地层沉积厚度进行插值。

根据本发明的一个实施例，步骤S60中，所述原始沉积厚度趋势面的参数为倾向、倾角或方向倾角分量。

根据本发明的一个实施例，通过对所述等时间间距的地层单元的厚度经过压实校正，获得所述原始地层沉积厚度。

根据本发明的一个实施例，步骤S10中，选取资料点的目的层段为连续沉积没有地层剥蚀，资料点至少为三个，且三个所述资料点不在同一条直线上。

根据本发明的一个实施例，资料点为钻井或露头资料。

与现有技术相比，本发明的优点在于：通过对等时间间距地层单元划分与对比，能够获得测量区域的地层沉积过程的平面周期性变化特征，实现对地质沉积过程平面周期性规律进行定量分析的目的。

附图说明