[发明专利]一种矩阵结构液晶显示屏灌晶前清洗工艺在审
| 申请号： | 201710359921.0 | 申请日： | 2017-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN107219647A | 公开（公告）日： | 2017-09-29 |
| 发明（设计）人： | 白航空 | 申请（专利权）人： | 合肥市惠科精密模具有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13;G02F1/1341 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市新站区九*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 矩阵 结构 液晶显示屏 灌晶前 清洗 工艺 | ||
1.一种矩阵结构液晶显示屏灌晶前清洗工艺，其特征在于，包括以下步骤：
(1)将矩阵结构液晶显示屏空盒置于真空烤箱的炉腔内，将真空烤箱加温，使真空烤箱的炉腔和液晶显示屏空盒中残留的水汽蒸发，去除残留在液晶显示屏空盒中的水汽；
(2)对真空烤箱的炉腔进行抽真空，将矩阵结构液晶显示屏空盒中的水汽、浑浊气体和封口处的脏物抽出；
(3)向真空烤箱的炉腔充入氮气，氮气充入矩阵结构液晶显示屏空盒中；
(4)再次对真空烤箱的炉腔进行抽真空，将充入到矩阵结构液晶显示屏空盒中的被矩阵结构液晶显示屏空盒中的残余气体污染的氮气抽出；
(5)再次向真空烤箱的炉腔充入氮气，氮气充入矩阵结构液晶显示屏空盒中，从真空烤箱的炉腔取出矩阵结构液晶显示屏空盒，完成清洗工作。
2.根据权利要求1所述的一种矩阵结构液晶显示屏灌晶前清洗工艺，其特征在于：所述步骤(1)中将真空烤箱加温至118℃，加温时间为120min。
3.根据权利要求1所述的一种矩阵结构液晶显示屏灌晶前清洗工艺，其特征在于：所述步骤(3)中氮气的纯度为95-99.99％，充氮气的流量为0.5-1.5L/min。
4.根据权利要求1所述的一种矩阵结构液晶显示屏灌晶前清洗工艺，其特征在于：所述所述步骤(4)中抽真空时间为8-16min，真空度为9-20Pa。
5.根据权利要求1所述的一种矩阵结构液晶显示屏灌晶前清洗工艺，其特征在于：所述步骤(5)中氮气的纯度为95-99.99％，充氮气的流量为0.9-1.2L/min。
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