[发明专利]光罩卡夹清洁装置及曝光机有效
申请号: | 201710364101.0 | 申请日: | 2017-05-22 |
公开(公告)号: | CN106950797B | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 罗善高 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;G03F7/20 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光罩卡夹 清洁 装置 曝光 | ||
1.一种光罩卡夹清洁装置,其特征在于,包括吸附部件(1),所述吸附部件(1)固定于光罩交换腔(21)的开口处,所述光罩交换腔(21)用于容纳光罩卡夹(3);
所述吸附部件(1)的吸附面朝向所述光罩卡夹(3)的表面设置;
所述吸附部件(1)包括:
用于吸附所述光罩卡夹(3)上异物的真空吸附管(11);以及
用于为所述真空吸附管(11)提供真空吸附动力的真空气体供应单元;
所述真空吸附管(11)面向所述光罩卡夹(3)的吸附面上分布有多个吸附单元(4);
所述真空吸附管(11)包括:
沿所述光罩卡夹(3)的高度方向从所述光罩卡夹(3)的上表面延伸至所述光罩卡夹(3)的下表面的侧壁吸附管(12);以及
沿所述光罩卡夹(3)的宽度方向从所述光罩卡夹(3)的一侧延伸至所述光罩卡夹(3)的另一侧的顶面吸附管(13);
其中,所述侧壁吸附管(12)的轴线以及所述顶面吸附管(13)的轴线均与所述光罩卡夹(3)的移动方向垂直。
2.根据权利要求1所述的光罩卡夹清洁装置,其特征在于,所述侧壁吸附管(12)与所述光罩卡夹(3)的侧壁之间的距离小于或等于25mm;所述顶面吸附管(13)与所述光罩卡夹(3)的上表面之间的距离小于或等于25mm。
3.根据权利要求1或2所述的光罩卡夹清洁装置,其特征在于,所述真空吸附管(11)上设置有用于与所述真空气体供应单元相连通的真空接口(14),所述真空接口(14)上设置有控制开关。
4.根据权利要求3所述的光罩卡夹清洁装置,其特征在于,还包括传感器(5),所述传感器(5)包括位于所述光罩卡夹(3)的下方的光罩感应传感器(51)以及位于所述光罩交换腔(21)内侧的限位传感器(52);
所述控制开关与所述传感器(51)电连接。
5.根据权利要求1所述的光罩卡夹清洁装置,其特征在于,所述吸附单元(4)为吸附孔(41)或真空吸盘。
6.根据权利要求5所述的光罩卡夹清洁装置,其特征在于,所述吸附孔(41)为圆孔、方孔或圆锥孔。
7.根据权利要求6所述的光罩卡夹清洁装置,其特征在于,所述吸附孔(41)等间距分布。
8.一种曝光机,其特征在于,包括上述权利要求1-7中任意一项所述的光罩卡夹清洁装置以及光罩交换移动槽(6),所述光罩卡夹(3)设置于所述光罩交换移动槽(6)中,所述光罩交换移动槽(6)滑动地设置在所述光罩交换腔(21)中。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710364101.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种扁线电机定子槽绝缘结构
- 下一篇:一种放射科IP板放置架
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备