[发明专利]一种UV光固化氟硅离型剂及其制备方法

说明书

本发明公开了一种UV光固化氟硅离型剂及其制备方法。本发明的UV光固化氟硅离型剂结构如下所示，其中，R₁为C_nH_2n+1，n=1～9；R₂为、或中的一种；R₃为C₂H₄C_nF_2nC₂H₄，n=1～9；R₄为C₂H₄R_f，R_f为氟醚基团或者氟烷基；x=1～5000、y=1～5000、z=0～5000、w=1～5000；本发明的UV光固化氟硅离型剂，其制备方法简单，可以解决高温固化、催化剂昂贵的问题。

技术领域

本发明涉及高分子材料制备领域，具体涉及一种UV光固化氟硅离型剂及其制备方法。

背景技术

离型剂是表面具有分离效果，与特定的材料在一定条件下接触不具有粘附力或者具有轻微粘附力的涂层。目前，聚硅氧烷是市场用量最大的离型剂。然而，有机硅离型剂对有机硅胶粘剂的离型效果显著。而引入氟素基团后，利用氟硅之间的不相容性，可以大幅度提高离型剂的离型效果。因此，氟硅离型剂是用于保护特种胶粘剂(特别是耐高温胶粘剂、有机硅胶粘剂)表面的离型涂层，也用于有机硅橡胶的过程保护。

目前的氟硅离型剂主要是采用热固化的方式，即在铂金催化剂作用下利用硅氢加成反应进行固化。然而，这种传统的固化方式需要在较高的温度(通常为150～170℃)下进行；采用的铂金催化剂价格相当昂贵。

发明内容

针对上述现有技术中存在的缺陷，本发明提供一种UV光固化氟硅离型剂及其制备方法。本发明的UV光固化氟硅离型剂，其制备方法简单，可以解决高温固化、催化剂昂贵的问题。

即，本发明提供一种UV光固化氟硅离型剂，其结构式如下：

其中，R₁为C_nH_2n+1，n＝1～9；

R₂为中的一种；

R₃为C₂H₄C_nF_2nC₂H₄，n＝1～9；R₄为C₂H₄R_f，R_f为氟醚基团或者氟烷基；x＝1～5000、y＝1～5000、z＝0～5000、w＝1～5000。

本发明还提供一种如上所述的UV光固化氟硅离型剂的制备方法，其以物质的量计，由下述各成分聚合而成：

其中，

所述氟硅环体为

所述短链氟硅油为

其中，3≤u+v≤6，1≤t≤10，R为C_nH_2n+1，R_f为C_nF_2n+1或O(CF₂CFCF₃)_nF，R_f1为C₂H₄C_nF_2nC₂H₄，n＝1～9。

此外，

所述环氧基有机硅环体为其中，3≤m+n≤4，

R为含有环氧基的基团。