[发明专利]一种基于SOI的透射式OLED微型显示器件及制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示屏领域，更具体地说，涉及一种基于SOI的透射式OLED微型显示器件及制作方法。

背景技术

显示装置作为现在智能设备的主要配置，其性能要求越来越高，特别是小型化的电子设备，例如在增强现实以及防务医疗等领域，要求显示屏的尺寸越来越小，但现在显示技术中多使用棱镜，导致光学模组的体积过大，不能适应电子设备对显示屏的要求。

绝缘体上硅结构(Silicon On Insulator，SOI)，是一种新型的集成电路制造工艺结构，可以实现集成电路中元器件的介质隔离，彻底消除了体硅CMOS电路中的寄生闩锁效应；由于其速度高、功耗低、集成密度高、抗辐射性能强是制造图像传感器和微型显示器的良好技术。

另外，现有显示技术中存在器件底部的透光问题。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于，针对现有技术的上述光学模组体积过大的缺陷，提供一种基于SOI的透射式OLED微型显示器件及制作方法。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：构造一种基于SOI的透射式OLED微型显示器件，包括：氧化硅层、电路层、显示层、光调制层、支撑层，所述氧化硅层、电路层、显示层、光调制层、支撑层依次设置；

所述电路层和所述显示层设置在所述氧化硅层上，所述电路层用于驱动所述显示层显示，所述光调制层用于调整所述显示层发出的光线，所述支撑层用于保护和支撑微型显示器件。

优选地，本发明所述的基于SOI的透射式OLED微型显示器件，所述显示层为OLED发光结构。

优选地，本发明所述的基于SOI的透射式OLED微型显示器件，所述光调制层由微透镜阵列组成。

优选地，本发明所述的基于SOI的透射式OLED微型显示器件，所述微透镜阵列由正反两种微透镜组合而成。

优选地，本发明所述的基于SOI的透射式OLED微型显示器件，所述支撑层通过粘合剂粘贴在所述光调制层上。

优选地，本发明所述的基于SOI的透射式OLED微型显示器件，所述支撑层为透明玻璃基板。

优选地，本发明所述的基于SOI的透射式OLED微型显示器件，所述电路层为驱动电路。

优选地，本发明所述的基于SOI的透射式OLED微型显示器件，所述氧化硅层处于绝缘体上硅结构上。

另，本发明还构造一种基于SOI的透射式OLED微型显示器件制作方法，包括：

S1：在剥离层上设置氧化硅层；

S2：在所述氧化硅层上制作电路层和显示层；

S3：在所述显示层上耦合光调制层；

S4：在所述光调制层上粘贴支撑层；

S5：通过化学机械抛光去除所述剥离层。

优选地，本发明所述的基于SOI的透射式OLED微型显示器件制作方法，所述氧化硅层处于绝缘体上硅结构上；所述电路层为驱动电路；所述显示层为OLED发光结构；所述光调制层由微透镜阵列组成，所述微透镜阵列由正反两种微透镜组合而成；所述支撑层为透明玻璃基板。

实施本发明的一种基于SOI的透射式OLED微型显示器件及制作方法。，具有以下有益效果：该微型显示器件包括：氧化硅层(2)、电路层(3)、显示层(4)、光调制层(5)、支撑层(6)，氧化硅层(2)、电路层(3)、显示层(4)、光调制层(5)、支撑层(6)依次设置；电路层(3)和显示层(4)设置在氧化硅层(2)上，电路层(3)用于驱动显示层(4)显示，光调制层(5)用于调整显示层(4)发出的光线，支撑层(6)用于保护和支撑微型显示器件。通过实施本发明，能有效减小光学模组的体积，同时能够解决从器件底部透过环境光线的问题，比普通硅基微型显示器更加适合增强现实及防务医疗等领域的应用。

附图说明

下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明，附图中：

图1是本发明一种基于SOI的透射式OLED微型显示器件的结构示意图；

图2是本发明一种基于SOI的透射式OLED微型显示器件制作方法的流程示意图。

具体实施方式

为了对本发明的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图详细说明本发明的具体实施方式。

图1是本发明一种基于SOI的透射式OLED微型显示器件的结构示意图。

具体的，该微型显示器件包括：氧化硅层2、电路层3、显示层4、光调制层5、支撑层6，氧化硅层2、电路层3、显示层4、光调制层5、支撑层6依次设置；