[发明专利]散射粒子跟踪方法和装置

权利要求书

1.一种散射粒子跟踪方法，包括：

建立系统模型，所述系统模型包括物理体和目标区域；

将物理体分为多个子物理体，并将目标区域分为多个子目标区域；

针对每一粒子，记录所述粒子的输运径迹，直到所述粒子的输运径迹结束为止，

其中如果所述粒子在一个子物理体上发生散射，则在所述粒子的输运径迹中增加所述子物理体的标记；且

如果所述粒子落入多个子目标区域中的一个子目标区域，则在所述粒子的输运径迹中增加所述子目标区域的标记；以及

将针对每一粒子的输运径迹存储在粒子输运径迹数据库中，以便分析影响待分析的子目标区域的子物理体。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括：

确定待分析的子目标区域；

从粒子输运轨迹数据库中查找含有所述子目标区域的标记的粒子输运轨迹；以及

根据所查找的粒子输运径迹，分析影响所述子目标区域的子物理体。

3.根据权利要求1所述的方法，还包括：使用蒙特卡洛模拟程序来记录所述粒子的输运径迹。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述粒子的输运径迹结束是指所述粒子达到停止输运条件。

5.根据权利要求1所述的方法，还包括：在记录所述粒子的输运径迹的期间，记录粒子的能量、动量和剂量信息中的至少一个。

6.一种散射粒子跟踪装置，包括

存储器，配置为存储可执行指令；

处理器，与所述存储器相连，并配置为执行存储器中存储的可执行指令，以执行如下操作：

建立系统模型，所述系统模型包括物理体和目标区域；

将物理体分为多个子物理体，并将目标区域分为多个子目标区域；

针对每一粒子，记录所述粒子的输运径迹，直到所述粒子的输运径迹结束为止，其中如果所述粒子在一个子物理体上发生散射，则在所述粒子的输运径迹中增加所述子物理体的标记；且如果所述粒子落入多个子目标区域中的一个子目标区域，则在所述粒子的输运径迹中增加所述子目标区域的标记；以及

将针对每一粒子的输运径迹存储在粒子输运径迹数据库中，以便分析影响待分析的子目标区域的子物理体。

7.根据权利要求6所述的装置，其中所述处理器进一步配置为：

确定待分析的子目标区域；

从粒子输运轨迹数据库中查找含有所述子目标区域的标记的粒子输运轨迹；以及

根据所查找的粒子输运径迹，分析影响所述子目标区域的子物理体。

8.根据权利要求6所述的装置，其中所述处理器还配置为：使用蒙特卡洛模拟程序来记录所述粒子的输运径迹。

9.根据权利要求6所述的装置，其中所述粒子的输运径迹结束是指所述粒子达到停止输运条件。

10.根据权利要求6所述的装置，其中所述处理器还配置为：在记录所述粒子的输运径迹的期间，记录粒子的能量、动量和剂量信息中的至少一个。

11.一种计算机可读记录介质，其上记录有使计算机在信息处理设备中执行如下处理的程序：

建立系统模型，所述系统模型包括物理体和目标区域；

将物理体分为多个子物理体，并将目标区域分为多个子目标区域；

针对每一粒子，记录所述粒子的输运径迹，直到所述粒子的输运径迹结束为止，

其中如果所述粒子在一个子物理体上发生散射，则在所述粒子的输运径迹中增加所述子物理体的标记；且

如果所述粒子落入多个子目标区域中的一个子目标区域，则在所述粒子的输运径迹中增加所述子目标区域的标记；以及

将针对每一粒子的输运径迹存储在粒子输运径迹数据库中，以便分析影响待分析的子目标区域的子物理体。