[发明专利]同位素生产装置

权利要求书

1.同位素生产装置，包括：

a)用于生产粒子束的回旋加速器(10)；

b)包围所述回旋加速器的屏蔽(40)；

c)包括在所述屏蔽(40)内的靶(20)系统；

其特征在于，所述屏蔽包括

1)具有至少100kg/m³的氢含量的第一层(80)；

2)第二层(90)，该第二层包含至少4900kg/m3的具有等于或高于26的原子序数的材料和至少29kg/m3的氢。

2.根据权利要求1所述的同位素生产装置，其特征在于，所述第一层(80)包含石蜡和/或聚乙烯和/或水。

3.根据权利要求1或2所述的同位素生产装置，其特征在于，所述第二层(90)包含填充有铁球和水的体积，该水填充这些铁球之间的开放空间。

4.根据前述权利要求中任一项所述的同位素生产装置，其特征在于，该第二层(90)的厚度与该第一层(80)的厚度的比率包括在1与2之间。

5.根据前述权利要求中任一项所述的同位素生产装置，其特征在于，所述第一层(80)具有包括在25cm与30cm之间的厚度。

6.根据前述权利要求中任一项所述的同位素生产装置，其特征在于，所述第二层(90)具有包括在50cm与60cm之间的厚度。

7.根据前述权利要求中任一项所述的同位素生产装置，其特征在于，所述回旋加速器(10)包括具有中央轴线Z的磁体，并且其中垂直于所述磁体的外表面的中央轴线Z的横截面具有与该中央轴线Z同心的圆形几何形状。

8.根据前述权利要求中任一项所述的同位素生产装置，其特征在于，所述回旋加速器(10)包括具有中央轴线Z的磁体，其中垂直于所述磁体的外表面的中央轴线Z的横截面具有内切于与该中央轴线Z同心的正方形中的几何形状，并且其中所述紧密包围屏蔽(40)包括邻近所述正方形的四个侧壁(110，120)以及覆盖所述四个侧壁(110，120)的顶部(130)。

9.根据权利要求8所述的同位素生产装置，其特征在于，所述靶(20)系统包括一个靶(20)或两个靶(20)，所述靶(20)是在围绕最接近侧壁的中央轴线Z的方位角处，邻近靶的侧壁(110)具有比非邻近靶的侧壁(120)更高的厚度。

10.根据权利要求8或9所述的同位素生产装置，其特征在于，在所述侧壁(110，120)对之间和/或在所述侧壁(110，120)与所述顶部(130)之间的外角被切断。

11.根据权利要求10所述的同位素生产装置，其特征在于，该切断是在包括在距所述外角25与50之间的距离处的45°切断。