[发明专利]一种光刻胶供应装置

说明书

本发明提供了一种光刻胶供应装置，包括通过管道顺次连接的设置有第一气体通道的第一存储装置、设置有第二气体通道的消耗侦测装置、设置有第三气体通道的第二存储装置和泵浦。所述第二气体通道设置有第一阀门，所述第三气体通道设置有第二阀门，所述消耗侦测装置与所述第二存储装置之间还设置有第三阀门。当第一存储装置报空时，第一阀门开启，避免了大气与消耗侦测装置内的光刻胶直接接触而污染光刻胶，并且，光刻胶也不能通过第一气体通道流出污染机台；当光刻胶供应装置前段发生故障无法工作时，第二阀门开启，第三阀门关闭，利用第二存储装置中的光刻胶继续作业，在工作人员排除故障时机台产量不减少。

技术领域

本发明涉及半导体制造领域，尤其是一种光刻胶供应装置。

背景技术

在半导体制造工艺中，光刻处于硅片加工过程的中心，常被认为是IC制造中最关键的步骤，成本几乎占到整个硅片加工成本的三分之一。光刻工艺是一个复杂的过程，其稳定性及可靠性对产品的质量、良率和成本有着重要的影响。

光刻工艺的质量与光刻胶供应装置息息相关，现有的光刻胶供应装置通常包括存储光刻胶的存储容器、消耗侦测桶和用于将光刻胶抽至喷嘴的泵浦，它们通过管道依次连接，光刻胶从存储容器流入消耗侦测桶，再从消耗侦测桶流至泵浦。消耗侦测桶设置有气体通道，当存储容器报空时，存储容器内无光刻胶或气体可从光刻胶瓶流向消耗侦测桶，此时，需要更换报空的存储容器，为了泵浦能够继续将光刻胶抽至喷嘴，需要打开消耗侦测桶的气体通道，消耗侦测桶内的光刻胶直接与大气接触，大气中的灰尘、微粒等污染物会污染光刻胶，光刻胶中含有杂质会影响光刻工艺的质量，使产品产生缺陷，大气中的水蒸气也会影响光刻胶的粘滞性。当泵浦抽取存储系统中的光刻胶时，会使消耗侦测桶中的光刻胶从气体通道流出，造成管路堵塞和机台污染，目前需要设备工程师每星期清理一次。

并且，现有的光刻胶供应装置中，没有应对光刻胶管路异常的方法，当光刻胶供应装置前段出现问题无法工作时，只能维修和更换设备，导致不良品增加、机台产量减少。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光刻胶供应装置，以解决现有技术中光刻质量不高、设备工程师必须定期清理机台和无法应对光刻胶管路异常的问题。

为了达到上述目的，本发明提供了一种光刻胶供应装置，用于向一喷嘴提供光刻胶包括：

通过管道顺次连接的第一存储装置、消耗侦测装置、第二存储装置和泵浦，所述第一存储装置、消耗侦测装置和第二存储装置均用于存储光刻胶，所述泵浦用于将光刻胶抽至所述喷嘴；其中，

所述第一存储装置上设置有第一气体通道；

所述消耗侦测装置上设置有第二气体通道，或者，所述第一存储装置与所述消耗侦测装置之间的管道上设置有第二气体通道，所述第二气体通道上设置有第一阀门；

所述第二存储装置上设置有第三气体通道，或者，所述消耗侦测装置与所述第二存储装置之间的管道上设置有第三气体通道，所述第三气体通道上设置有第二阀门；

所述消耗侦测装置与所述第二存储装置之间的管道上设置有第三阀门；

可选的，所述第一存储装置上设置有第一检测器；或者，所述第一存储装置与所述消耗侦测装置之间的管道上设置有第一检测器；所述第一检测器控制所述第一阀门的开合；

可选的，所述第一存储装置报空时，所述第一阀门开启；所述第一存储装置未报空时，所述第一阀门闭合；

可选的，所述消耗侦测装置与所述第二存储装置之间的管道上设置有第二检测器，所述第二检测器控制所述第二阀门和所述第三阀门的开合；

可选的，所述第二管道上有光刻胶流过时，所述第二阀门开启，所述第三阀门闭合；所述第二管道上没有光刻胶流过时，所述第二阀门闭合，所述第三阀门开启；

可选的，所述第一气体通道与所述第二气体通道相连；