[发明专利]柔性阵列基板的制作方法有效

专利信息
申请号: 201710370204.8 申请日: 2017-05-23
公开(公告)号: CN106952583B 公开(公告)日: 2019-04-30
发明(设计)人: 陈黎暄;李泳锐 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G09F9/30 分类号: G09F9/30;G02F1/1333
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人: 林才桂
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 柔性 阵列 制作方法
【权利要求书】:

1.一种柔性阵列基板的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤S1、提供一刚性支撑板(1),在所述刚性支撑板(1)上形成胶粘层(2),在所述胶粘层(2)上形成钝化层(3);

步骤S2、在所述钝化层(3)上制作背面驱动电路(4),并在所述背面驱动电路(4)上覆盖平坦层(5);

步骤S3、在所述平坦层(5)上制作柔性衬底(6);

步骤S4、在所述柔性衬底(6)上形成贯穿所述柔性衬底(6)和平坦层(5)的过孔(7);

步骤S5、在所述柔性衬底(6)上形成正面驱动电路(8)以及与正面驱动电路(8)电性连接的显示电路(9),所述正面驱动电路(8)通过所述过孔(7)与所述背面驱动电路(4)电性连接;

步骤S6、剥离所述刚性支撑板(1)和胶粘层(2),制得柔性阵列基板;

所述正面驱动电路(8)形成于所述柔性衬底(6)上预设的非显示区内,所述显示电路(9)形成于所述柔性衬底(6)上预设的显示区内,其中,所述显示区位于所述柔性衬底(6)的中央,所述非显示区域包围所述显示区域。

2.如权利要求1所述的柔性阵列基板的制作方法,其特征在于,所述刚性支撑板(1)的材料为玻璃。

3.如权利要求1所述的柔性阵列基板的制作方法,其特征在于,所述柔性衬底(6)的材料为聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、环烯烃共聚物、或者聚醚砜树脂。

4.如权利要求1所述的柔性阵列基板的制作方法,其特征在于,所述柔性衬底(6)的厚度为5至500微米。

5.如权利要求1所述的柔性阵列基板的制作方法,其特征在于,所述步骤S4中通过激光打孔、或化学腐蚀的方法制作所述过孔(7)。

6.如权利要求1所述的柔性阵列基板的制作方法,其特征在于,所述过孔(7)的直径为5至100微米。

7.如权利要求1所述的柔性阵列基板的制作方法,其特征在于,所述步骤S6中通过激光剥离的方式剥离所述刚性支撑板(1)和胶粘层(2)。

8.如权利要求1所述的柔性阵列基板的制作方法,其特征在于,所述步骤S3中通过涂布或贴附的方式在平坦层(5)上制作柔性衬底(6)。

9.如权利要求1所述的柔性阵列基板的制作方法,其特征在于,所述正面驱动电路(8)和背面驱动电路(4)共同形成所述柔性阵列基板的WOA走线。

10.如权利要求1所述的柔性阵列基板的制作方法,其特征在于,所述正面驱动电路(8)和背面驱动电路(4)共同形成所述柔性阵列基板的WOA走线和GOA电路。

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