[发明专利]一种单相自恢复式过欠压保护器有效
申请号: | 201710372693.0 | 申请日: | 2017-05-24 |
公开(公告)号: | CN107134753B | 公开(公告)日: | 2019-11-05 |
发明(设计)人: | 汪小娟;何化敏;王振坤;徐元亮;张红伟;李柏 | 申请(专利权)人: | 浙江天正电气股份有限公司 |
主分类号: | H02H3/20 | 分类号: | H02H3/20;H02H3/24 |
代理公司: | 温州金瓯专利事务所(普通合伙) 33237 | 代理人: | 王坚强 |
地址: | 325604 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 单相 恢复 保护 | ||
一种单相自恢复式过欠压保护器,通过在下壳体内设置用于安装电路板的电路板安装区域、用于安装继电器的继电器安装区域,继电器安装区域内的围挡上形成有可安装限位片的第一凹槽,上盖上设有可安装限位片的第二凹槽,在控制电路板与继电器采用独立分开安装的结构时,能对继电器进行良好的限位,不会因继电器外形尺寸和安装结构等不同而得不到良好的固定安装,从而导致产品会因运输过程振动、跌落和使用环境较恶劣出现使用缺陷。
技术领域
本发明具体涉及电器应用技术领域,具体涉及一种单相自恢复式过欠压保护器。
背景技术
现有自恢复式过欠压保护器以下简称过欠压保护器由上盖、壳体、N极组件、继电器组件、控制电路板和两组进、出线端子等组成。目前市场上普遍存在:一种是继电器组件与控制电路板焊接为一体以下简称一体式,另一种是控制电路板与继电器组件独立分开以下简称分开式,通过引线传导信号。在额定工作电流条件下,一体式控制电路板中的元器件和PCB板要承受大量来自继电器组件工作时的发热。小电流工作条件下,对控制电路板整体的性能不会造成大的影响;工作电流比较大时,控制电路板承受的发热很大,对控制电路板中元器件、PCB板等的影响比较大。因上述点和成本等方面的因素,所以目前市场上普遍小电流时采用一体式结构,较大电流时采用分开式结构。然而一种腔体内要适用一体式和分开式多种结构,总难以避免地对其中某种结构不能有效的安装限位,而是将所有组成件笼统地放置在壳体和上盖形成的一个内腔中,有些甚至各部件之间相互紧挨。这样不能对各零部件进行有效的限位控制、不能对各带电部件之间进行有效的隔离。
发明内容
为了解决现有技术的不足,本发明的提供了一种单相自恢复式过欠压保护器,包括下壳体与上盖,所述的下壳体与上盖间可拆卸连接,所述的下壳体内设有电路板与继电器,所述下壳体内设有用于安装电路板的电路板安装区域、用于安装继电器的继电器安装区域,所述的电路板安装在电路板安装区域内,所述的继电器安装区域由隔离电路板安装区域和继电器安装区域的围挡和隔离继电器引脚的挡板组成,所述的围挡上形成有可安装继电器限位片的第一凹槽,所述的上盖上设有可安装继电器限位片的第二凹槽。
所述的继电器安装区域包括有第一安装区域,所述的继电器安装在第一安装区域内,所述的第一凹槽位于第一安装区域与围挡的连接处,所述的第二凹槽位于与第一安装区域对应位置的上盖处。
所述的第一凹槽内设有限位继电器水平方向和翻转的水平限位片,所述的第二凹槽内设有限位继电器竖直方向的纵向限位片,所述的水平限位片和纵向限位片与继电器限位配合。
所述的继电器安装区域还包括有位于围挡上的第二安装区域,所述的继电器位于第二安装区域,所述的继电器与电路板焊接连接。
所述的继电器安装区域包括有第一安装区域,所述的继电器安装在第一安装区域内,所述的围挡与继电器限位配合,所述的第一凹槽的一侧还设有凸台,所述的凸台与继电器限位配合。
所述的上盖上与电路板安装区域对应的位置上还设有固定块,所述的固定块中间设有安装槽,所述的电路板的上端卡接在安装槽内与固定块限位配合。
所述的下壳体上设有卡勾,所述的上盖上设有与卡勾适配的卡槽,所述的上盖和下壳体通过卡勾与卡槽连接。
所述的下壳体和上盖上的周侧均设有若干插齿,相邻的插齿间形成有插槽,所述的下壳体和上盖上的插齿相互交错插接配合。
本发明的有益效果是:本发明提供了一种单相自恢复式过欠压保护器,通过在下壳体内设置用于安装电路板的电路板安装区域、用于安装继电器的继电器安装区域,继电器安装区域内的围挡上形成有可安装限位片的第一凹槽,上盖上设有可安装限位片的第二凹槽,在控制电路板与继电器采用独立分开安装的结构时,能对继电器进行良好的限位,不会因继电器外形尺寸和安装结构等不同而得不到良好的固定安装,从而导致产品会因运输过程振动、跌落和使用环境较恶劣出现使用缺陷。
附图说明
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江天正电气股份有限公司,未经浙江天正电气股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710372693.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。