[发明专利]太阳能电池有效

专利信息
申请号: 201710374694.9 申请日: 2017-05-24
公开(公告)号: CN108963003B 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 张金;魏洋;姜开利;范守善 申请(专利权)人: 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/072
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100084 北京市海淀区清*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 太阳能电池
【说明书】:

一种太阳能电池,其包括一半导体结构,所述半导体结构包括一P型半导体层及一N型半导体层,并定义一第一表面及与第一表面相对的第二表面;一背电极设置于半导体结构的第一表面,该背电极为一碳纳米管;一上电极,该上电极为一透明导电膜,该透明导电膜通过沉积方法形成于所述半导体结构的第二表面,使半导体结构设置于碳纳米管和透明导电膜之间,碳纳米管、半导体结构与透明导电膜相互层叠形成一多层立体结构。

技术领域

发明涉及一种太阳能电池。

背景技术

太阳能是当今最清洁的能源之一,取之不尽、用之不竭。太阳能的利用方式包括光能-热能转换、光能-电能转换和光能-化学能转换。太阳能电池是光能-电能转换的典型例子,是利用半导体材料的光生伏特原理制成的。目前,以硅基太阳能电池(请参见“太阳能电池及多晶硅的生产”,材料与冶金学报,张明杰等,vol6,p33-38(2007))为主。在硅基太阳能电池中,以单晶硅和多晶硅作为光电转换的材料。通常用单晶硅片制造。然而,目前单晶硅的制备工艺远不能满足发展的需要,并且制备单晶硅需要消耗大量的电能,导致单晶硅片非常昂贵,使得使用单晶硅片的也非常昂贵。近年来,具有多晶硅衬底的硅的成本日益跌落,其产量显著增加。然而,现有技术中的多晶硅太阳能电池结构复杂。而且,在多晶硅衬底的生长过程中,由于热应力的作用,会在晶粒中产生大量的缺陷(如悬挂键、晶界、位错、微缺陷等),影响太阳能电池的整体性能。

发明内容

本发明提供了一种含有范德华异质结构的太阳能电池,以克服以上缺点。

一种太阳能电池,其包括一半导体结构,所述半导体结构包括一P型半导体层及一N型半导体层,并定义一第一表面及与第一表面相对的第二表面;一背电极设置于半导体结构的第一表面,该背电极为一碳纳米管;一上电极,该上电极为一透明导电膜,该透明导电膜通过沉积方法形成于所述半导体结构的第二表面,使半导体结构设置于碳纳米管和透明导电膜之间,碳纳米管、半导体结构与透明导电膜相互层叠形成一多层立体结构。

一太阳能电池,该太阳能电池包括一栅极及一绝缘层,所述绝缘层设置于栅极的表面;一半导体结构设置于绝缘层的表面,通过所述绝缘层与栅极绝缘设置,所述半导体结构包括一P型半导体层及一N型半导体层,并定义一第一表面及与第一表面相对的第二表面;一背电极设置于半导体结构的第一表面,该背电极为一碳纳米管;一上电极,该上电极为一透明导电膜,该透明导电膜通过沉积方法形成于所述半导体结构的第二表面,使半导体结构设置于碳纳米管和透明导电膜之间,碳纳米管、半导体结构与透明导电膜相互层叠形成一多层立体结构;其中,所述太阳能电池进一步包括一第一电极及一第二电极,所述第一电极与碳纳米管电连接,所述第二电极与透明导电膜电连接。

相较于现有技术,本发明提供了一种太阳能电池,该太阳能电池成本较低,结构简单,在未来的纳米电子学和纳米光电子学领域具有巨大的应用潜力。

附图说明

图1为本发明第一实施例提供的太阳能电池的整体结构示意图。

图2为本发明第一实施例提供的太阳能电池的侧视示意图。

图3为本发明第一实施例提供的另一种太阳能电池侧视示意图。

图4为本发明第二实施例提供的太阳能电池的结构示意图。

主要元件符号说明

太阳能电池 100;200

背电极 102

半导体结构 104

P型半导体层 104a

N型半导体层 104b

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司,未经清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710374694.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top