[发明专利]光学成像系统在审
申请号: | 201710378792.X | 申请日: | 2017-05-25 |
公开(公告)号: | CN107462982A | 公开(公告)日: | 2017-12-12 |
发明(设计)人: | 赖建勋;唐乃元;张永明 | 申请(专利权)人: | 先进光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B13/18 | 分类号: | G02B13/18;G02B13/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人: | 智云 |
地址: | 中国台湾中部科学工业*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 成像 系统 | ||
技术领域
本发明涉及一种光学成像系统,且特别涉及一种应用于电子产品上的小型化光学成像系统。
背景技术
近年来,随着具有摄影功能的可携式电子产品的兴起,光学系统的需求日渐提高。一般光学系统的感光组件不外乎是感光耦合组件(Charge Coupled Device;CCD)或互补金属氧化物半导体传感器(Complementary Metal-Oxide Semiconductor Sensor;CMOS Sensor)两种,且随着半导体工艺技术的精进,使得感光组件的像素尺寸缩小,光学系统逐渐往高像素领域发展,因此对成像质量的要求也日益增加。
传统搭载于便携设备上的光学系统,多采用二片或三片式透镜结构为主,然而由于便携设备不断朝提升像素并且终端消费者对大光圈的需求例如微光与夜拍功能或是对广视角的需求例如前置镜头的自拍功能。惟设计大光圈的光学系统常面临产生更多像差致使边缘成像质量随的劣化以及制造难易度的处境,而设计广视角的光学系统则会面临成像的畸变率(distortion)提高,现有的光学成像系统已无法满足更高阶的摄影要求。
因此,如何有效增加光学成像系统的进光量与增加光学成像系统的视角,除进一步提高成像的总像素与质量外同时能兼顾微型化光学成像系统的衡平设计,便成为一个相当重要的议题。
发明内容
本发明实施例提供一种光学成像系统,能够利用四个透镜的屈光力、凸面与凹面的组合(本发明所述凸面或凹面原则上是指各透镜的物侧面或像侧面于光轴上的几何形状描述),进而有效提高光学成像系统的进光量与增加光学成像系统的视角,同时提高成像的总像素与质量,以应用于小型的电子产品上。
本发明实施例相关的透镜参数的用语与其代号详列如下,作为后续描述的参考:
与长度或高度有关的透镜参数
光学成像系统的成像高度以HOI表示;光学成像系统的高度以HOS表示;光学成像系统的第一透镜物侧面至第四透镜像侧面间的距离以InTL表示;光学成像系统的第四透镜像侧面至成像面间的距离以InB表示;InTL+InB=HOS;光学成像系统的固定光阑(光圈)至成像面间的距离以InS表示;光学成像系统的第一透镜与第二透镜间的距离以IN12表示(例示);光学成像系统的第一透镜于光轴上的厚度以TP1表示(例示)。
与材料有关的透镜参数
光学成像系统的第一透镜的色散系数以NA1表示(例示);第一透镜的折射率以Nd1表示(例示)。
与视角有关的透镜参数
视角以AF表示;视角的一半以HAF表示;主光线角度以MRA表示。
与出入瞳有关的透镜参数
光学成像系统的入射光瞳直径以HEP表示;单一透镜的任一表面的最大有效半径是指系统最大视角入射光通过入射光瞳最边缘的光线于所述透镜表面交会点(Effective Half Diameter;EHD),所述交会点与光轴之间的垂直高度。例如第一透镜物侧面的最大有效半径以EHD11表示,第一透镜像侧面的最大有效半径以EHD12表示。第二透镜物侧面的最大有效半径以EHD21表示,第二透镜像侧面的最大有效半径以EHD22表示。光学成像系统中其余透镜的任一表面的最大有效半径表示方式以此类推。
与透镜面形弧长及表面轮廓有关的参数
单一透镜的任一表面的最大有效半径的轮廓曲线长度,是指所述透镜的表面与所属光学成像系统的光轴的交点为起始点,自所述起始点沿着所述透镜的表面轮廓直至其最大有效半径的终点为止,前述两点间的曲线弧长为最大有效半径的轮廓曲线长度,并以ARS表示。例如第一透镜物侧面的最大有效半径的轮廓曲线长度以ARS11表示,第一透镜像侧面的最大有效半径的轮廓曲线长度以ARS12表示。第二透镜物侧面的最大有效半径的轮廓曲线长度以ARS21表示,第二透镜像侧面的最大有效半径的轮廓曲线长度以ARS22表示。光学成像系统中其余透镜的任一表面的最大有效半径的轮廓曲线长度表示方式以此类推。
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