[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示器件

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示基板及其制作方法、显示器件。

背景技术

液晶显示装置的主体结构包括背光源、对盒的阵列基板和彩膜基板，以及填充在阵列基板和彩膜基板之间的液晶层。其显示原理为：通过电压来控制液晶分子的不同状态，使背光源的光线以所需的偏振方向穿透液晶层，呈现出不同的色泽与图形的画面。

为了实现显示，需要使液晶分子有规律的排列，为此在液晶层的上下表面增加取向膜，液晶分子顺着该取向膜方向排列并与基板呈一定角度。当向液晶层施加电压时，液晶分子会发生偏转，产生光电特性。形成取向膜的主要方法是将取向液涂布于阵列基板和彩膜基板的内侧，然后进行摩擦制程，在摩擦制程中，利用取向滚轴上摩擦布的毛羽摩擦取向膜的表面，刷出按照一定方向排列的沟槽，完成取向膜的取向。

由于取向膜需要与液晶层接触设置，只有在基板的其它结构的制作完成后，才会制作取向膜。因此，基板上的结构势必会影响取向膜的摩擦取向，尤其是与取向方向之间呈大于零的夹角的信号线。由于信号线与周边区域之间存在段差，这使在对取向膜摩擦取向的过程中，该信号线两侧段差的底部处的取向膜不容易被刷出取向沟槽，导致显示装置在该信号线两侧的部分产生漏光现象，使显示装置的亮度、色度不均匀，影响画质。

发明内容

本发明提供一种显示基板及其制作方法、显示器件，用以解决信号线两侧的部分会产生漏光现象的问题。

为解决上述技术问题，本发明实施例中提供一种显示基板，包括基底和设置在所述基底上的第一信号线，所述第一信号线沿第一方向延伸，所述第一信号线的至少一部分包括至少两层层叠设置的导电线；在与第一方向垂直的方向上，最靠近所述基底的导电线的宽度大于其它导电线的宽度，且最靠近所述基底的导电线在所述基底上的正投影的沿第一方向延伸的长边位于其它导电线在所述基底上的正投影的沿第一方向延伸的长边的外侧。

如上所述的显示基板，其中，对于任意相邻的两层导电线，靠近所述基底的导电线的宽度大于另一导电线的宽度，且靠近所述基底的导电线在所述基底上的正投影的沿第一方向延伸的长边位于另一导电线在所述基底上的正投影的沿第一方向延伸的长边的外侧。

如上所述的显示基板，其中，在垂直于所述基底的方向上，所述至少两层导电线的厚度相同。

如上所述的显示基板，其中，所述第一信号线的至少一部分由第一导电线和第二导电线组成，所述第一导电线相对所述第二导电线更靠近所述基底，所述第一导电线由Al制得，所述第二导电线由Mo制得。

如上所述的显示基板，其中，所述显示基板为薄膜晶体管阵列基板，所述第一信号线为数据线；

所述显示基板还包括取向膜，所述取向膜的取向方向与所述第一方向垂直。

本发明实施例中还提供一种显示器件，包括如上所述的显示基板。

本发明实施例中还提供一种如上所述的显示基板的制作方法，包括：

在一基底上形成第一信号线；

在所述第一信号线的背离所述基底一侧形成取向膜，所述第一信号线沿第一方向延伸，形成所述第一信号线的步骤包括：

形成至少两层层叠设置的导电线；在与第一方向垂直的方向上，最靠近所述基底的导电线的宽度大于其它导电线的宽度，且最靠近所述基底的导电线在所述基底上的正投影的沿第一方向延伸的长边位于其它导电线在所述基底上的正投影的长边的沿第一方向延伸的外侧。

如上所述的制作方法，其中，形成所述第一信号线的步骤包括：

依次形成至少两层导电层，每一导电层用于形成所述第一信号线的一导电线；

在所述至少两层导电层上形成光刻胶，对所述光刻胶进行曝光，显影后形成光刻胶不保留区域、光刻胶保留区域，所述光刻胶保留区域至少对应所述第一信号线所在的区域，所述光刻胶保留区域包括光刻胶第一保留区域和光刻胶第二保留区域，所述光刻胶第一保留区域的光刻胶的厚度小于所述光刻胶第二保留区域的光刻胶的厚度，在与第一方向垂直的方向上，所述光刻胶第一保留区域位于所述光刻胶保留区域的最外围；

去除光刻胶不保留区域的所述至少两层导电层；

通过灰化工艺去除光刻胶第一保留区域的光刻胶，去除光刻胶第一保留区域的除最靠近所述基底的导电层以外的其它导电层，以使在与第一方向垂直的方向上，最靠近所述基底的导电线的宽度大于其它导电线的宽度，且最靠近所述基底的导电线在所述基底上的正投影的沿第一方向延伸的长边位于其它导电线在所述基底上的正投影的沿第一方向延伸的长边的外侧。