[发明专利]量子点彩色滤光片及制备方法、液晶面板、液晶显示设备

权利要求书

1.一种量子点彩色滤光片的制备方法，包括：在透明基板上形成黑色矩阵；

在所述黑色矩阵的空隙中分别形成红色像素点、绿色像素点和蓝色像素点；

其特征在于，在形成所述红色像素点或者形成所述绿色像素点时，将负型光刻胶涂覆在所述黑色矩阵上，经紫外光曝光后，对所述红色像素点或所述绿色像素点所在空隙进行显影；

将用于制备红光量子点或绿光量子点的反应原料与光固化树脂体系混合得到的混合溶液，填充在被显影的空隙中，在紫外光照射条件下对所述混合溶液进行双侧照射，保温反应预设时间，所述红光量子点和所述绿光量子点的保温反应时间不同。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述黑色矩阵的空隙中形成所述红色像素点、所述绿色像素点和所述蓝色像素点；

形成所述红色像素点，包括：在所述黑色矩阵上涂覆所述负型光刻胶；

在所述负型光刻胶上覆盖掩膜板，进行紫外光曝光；

利用显影剂对所述黑色矩阵第一空隙处的负型光刻胶进行显影；

将用于制备红光量子点的反应原料与光固化树脂体系混合得到的混合溶液，填充在所述第一空隙中，在紫外光照射条件下对所述混合溶液进行双侧照射，保温反应第一预设时间，形成红色像素点；

形成所述绿色像素点，包括：继续在所述黑色矩阵上涂覆所述负型光刻胶，使所述红色像素点被所述负型光刻胶所覆盖；

在所述负型光刻胶上覆盖掩膜板，进行紫外光曝光；

利用显影剂对所述黑色矩阵第二空隙处的负型光刻胶进行显影；

将用于制备绿光量子点的反应原料与光固化树脂体系混合得到的混合溶液，填充在所述第二空隙中，在紫外光照射条件下对所述混合溶液进行双侧照射，保温反应第二预设时间，形成绿色像素点；

形成所述蓝色像素点，包括：继续在所述黑色矩阵上涂覆所述负型光刻胶，使所述绿色像素点也被所述负型光刻胶所覆盖；

在所述负型光刻胶上覆盖掩膜板，进行紫外光曝光；

利用显影剂对所述黑色矩阵第三空隙处的负型光刻胶进行显影；

将用于制备蓝色像素点的光固化树脂体系填充在所述第三空隙中，进行紫外光照射，形成蓝色像素点；

然后，对覆盖在所述红色像素点和所述绿色像素点上的所述负型光刻胶进行脱膜处理。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述红光量子点为粒度为8-10nm的CdSe；

所述绿光量子点为粒度为3-5nm的CdSe；

所述第一预设时间为20-30s；

所述第二预设时间为10-15s。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，用于制备所述红光量子点的反应原料，以及用于制备所述绿光量子点的反应原料均包括：Cd前体溶液和Se前体溶液；

所述Cd前体溶液为：质量比为1:3:6的油酸镉：三正辛基氧化磷：1-十四烯；

所述Se前体溶液为：质量比为1:5:5的硒：磷酸三丁酯：十八烯。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述形成红色像素点或所述形成绿色像素点，还包括：

将所述Cd前体溶液与所述光固化树脂体系混合均匀并填充到所述第一空隙或所述第二空隙内，在惰性气氛保护下加热至80-110℃；

以注入速度向所述第一空隙或所述第二空隙内加入所述Se前体溶液，在紫外光照射条件下，加热至240-280℃并保温反应所述第一预设时间或所述第二预设时间，形成所述红色像素点或所述绿色像素点，所述注入速度为20-40ml/min。

6.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述形成蓝色像素点，包括：

将散射粒子与光固化树脂体系混合，填充至所述第三空隙，经紫外光照射，形成所述蓝色像素点。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在透明基板上形成黑色矩阵，包括：

通过液相沉积法在透明基板上沉积一层Cr金属层；

利用光刻工艺在所述Cr金属层上形成所述黑色矩阵。