[发明专利]一种电子束光学系统及增材制造装置

权利要求书

1.一种电子束光学系统，其特征在于，包括均设有供电子束通过的束通孔（5）且所述束通孔（5）依次连通设置的聚焦系统（1）、正偏转系统（2）、负偏转系统（3）以及偏转系统（4），所述正偏转系统（2）的束通孔（5）与负偏转系统（3）的束通孔（5）交错设置，所述电子束经聚焦系统（1）射入，并依次经正偏转系统（2）、负偏转系统（3）以及偏转系统（4）射出；

所述正偏转系统（2）和负偏转系统（3）之间设有连接件（6），所述连接件（6）上开设有连接孔（61），所述连接孔（61）用于将正偏转系统（2）的束通孔（5）以及负偏转系统（3）的束通孔（5）连通。

2.根据权利要求1所述的电子束光学系统，其特征在于，所述正偏转系统（2）中通入的电流与负偏转系统（3）中通入的电流方向相反，以使所述电子束射入正偏转系统（2）后偏转的角度和射入负偏转系统（3）后偏转的角度相反。

3.根据权利要求2所述的电子束光学系统，其特征在于，所述正偏转系统（2）和负偏转系统（3）中的电流大小相同。

4.根据权利要求1所述的电子束光学系统，其特征在于，所述聚焦系统（1）、正偏转系统（2）、负偏转系统（3）以及偏转系统（4）之间密封连接。

5.根据权利要求1所述的电子束光学系统，其特征在于，所述聚焦系统（1）的束通孔（5）与正偏转系统（2）的束通孔（5）同轴，所述偏转系统（4）的束通孔（5）与负偏转系统（3）的束通孔（5）同轴。

6.根据权利要求5所述的电子束光学系统，其特征在于，所述聚焦系统（1）、正偏转系统（2）、负偏转系统（3）以及偏转系统（4）均包括外壳（7）以及位于外壳（7）内的线圈（8），所述束通孔（5）开设在所述外壳（7）上。

7.根据权利要求1所述的电子束光学系统，其特征在于，所述正偏转系统（2）以及负偏转系统（3）均设置有多个，且多个正偏转系统（2）与多个负偏转系统（3）之间交替设置。

8.一种增材制造装置，其特征在于，包括权利要求1-7任一所述的电子束光学系统。

9.根据权利要求8所述的增材制造装置，其特征在于，还包括成形缸（20），所述偏转系统（4）的束通孔（5）的轴心与所述成形缸（20）的轴心重合。