[发明专利]一种跟踪X光源焦点位置的装置、系统及方法有效

专利信息
申请号: 201710398128.1 申请日: 2017-05-31
公开(公告)号: CN107095690B 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 郭颂超 申请(专利权)人: 上海联影医疗科技股份有限公司
主分类号: A61B6/03 分类号: A61B6/03;A61B6/00
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 201807 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 跟踪 光源 焦点 位置 装置 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种跟踪X光源焦点位置的装置,其特征在于,包括:X射线接收器以及遮挡结构;所述遮挡结构与所述X射线接收器之间间隔预设距离;

其中,所述X射线接收器,包括沿第一方向设置的至少两个X射线接收区域,以及沿第二方向设置的至少两个X射线接收区域;所述第一方向垂直于所述第二方向;

所述遮挡结构,在每个所述X射线接收区域均有投影,且在每个所述X射线接收区域的投影面积均小于所述每个X射线接收区域的面积;

其中,当X光源焦点的位置移动时,所述X射线接收区域的投影面积也跟随变动,用于确定X光源焦点位置的变化。

2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述遮挡结构的形状包括十字叉形、矩形、圆形或三角形中的一种。

3.一种计算机断层成像系统,其特征在于,包括:X光源、X射线探测器以及至少一个如权利要求1-2任一项所述的跟踪X光源焦点位置的装置。

4.根据权利要求3所述的系统,其特征在于,所述跟踪X光源焦点位置的装置位于所述X光源的照射范围内。

5.根据权利要求4所述的系统,其特征在于,所述跟踪X光源焦点位置的装置中的遮挡结构位于所述X光源与所述X射线探测器之间。

6.一种跟踪X光源焦点位置的方法,其特征在于,包括:

接收X光源发出后经遮挡结构衰减的X射线;

根据所述接收到的X射线,分别计算沿第一方向设置的至少两个第一X射线接收区域的X射线强度,以及沿第二方向设置的至少两个第二X射线接收区域的X射线强度,其中,所述第一方向和所述第二方向垂直;

根据所述第一X射线接收区域的X射线强度和所述第二X射线接收区域的X射线强度,确定所述X光源的焦点位置;

所述遮挡结构,在每个所述X射线接收区域均有投影,且在每个所述X射线接收区域的投影面积均小于所述每个X射线接收区域的面积。

7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述根据所述第一X射线接收区域的X射线强度和所述第二X射线接收区域的X射线强度,确定所述X光源的焦点位置,包括:

确定两个所述第一X射线接收区域的X射线强度的第一数学关系;

确定两个所述第二X射线接收区域的X射线强度的第二数学关系;

根据不同时刻下的所述第一数学关系和所述第二数学关系,确定所述X光源的焦点位置。

8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述第一数学关系和第二数学关系为比值关系或差关系。

9.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,根据不同时刻下的所述第一数学关系和所述第二数学关系,确定所述X光源的焦点位置,包括,

根据第一数学关系确定X光源的焦点在第一方向上的位置;

根据第二数学关系确定X光源的焦点在第二方向上的位置。

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