[发明专利]一种跟踪X光源焦点位置的装置、系统及方法有效
申请号: | 201710398128.1 | 申请日: | 2017-05-31 |
公开(公告)号: | CN107095690B | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
发明(设计)人: | 郭颂超 | 申请(专利权)人: | 上海联影医疗科技股份有限公司 |
主分类号: | A61B6/03 | 分类号: | A61B6/03;A61B6/00 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 201807 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 跟踪 光源 焦点 位置 装置 系统 方法 | ||
1.一种跟踪X光源焦点位置的装置,其特征在于,包括:X射线接收器以及遮挡结构;所述遮挡结构与所述X射线接收器之间间隔预设距离;
其中,所述X射线接收器,包括沿第一方向设置的至少两个X射线接收区域,以及沿第二方向设置的至少两个X射线接收区域;所述第一方向垂直于所述第二方向;
所述遮挡结构,在每个所述X射线接收区域均有投影,且在每个所述X射线接收区域的投影面积均小于所述每个X射线接收区域的面积;
其中,当X光源焦点的位置移动时,所述X射线接收区域的投影面积也跟随变动,用于确定X光源焦点位置的变化。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述遮挡结构的形状包括十字叉形、矩形、圆形或三角形中的一种。
3.一种计算机断层成像系统,其特征在于,包括:X光源、X射线探测器以及至少一个如权利要求1-2任一项所述的跟踪X光源焦点位置的装置。
4.根据权利要求3所述的系统,其特征在于,所述跟踪X光源焦点位置的装置位于所述X光源的照射范围内。
5.根据权利要求4所述的系统,其特征在于,所述跟踪X光源焦点位置的装置中的遮挡结构位于所述X光源与所述X射线探测器之间。
6.一种跟踪X光源焦点位置的方法,其特征在于,包括:
接收X光源发出后经遮挡结构衰减的X射线;
根据所述接收到的X射线,分别计算沿第一方向设置的至少两个第一X射线接收区域的X射线强度,以及沿第二方向设置的至少两个第二X射线接收区域的X射线强度,其中,所述第一方向和所述第二方向垂直;
根据所述第一X射线接收区域的X射线强度和所述第二X射线接收区域的X射线强度,确定所述X光源的焦点位置;
所述遮挡结构,在每个所述X射线接收区域均有投影,且在每个所述X射线接收区域的投影面积均小于所述每个X射线接收区域的面积。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述根据所述第一X射线接收区域的X射线强度和所述第二X射线接收区域的X射线强度,确定所述X光源的焦点位置,包括:
确定两个所述第一X射线接收区域的X射线强度的第一数学关系;
确定两个所述第二X射线接收区域的X射线强度的第二数学关系;
根据不同时刻下的所述第一数学关系和所述第二数学关系,确定所述X光源的焦点位置。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述第一数学关系和第二数学关系为比值关系或差关系。
9.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,根据不同时刻下的所述第一数学关系和所述第二数学关系,确定所述X光源的焦点位置,包括,
根据第一数学关系确定X光源的焦点在第一方向上的位置;
根据第二数学关系确定X光源的焦点在第二方向上的位置。
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