[发明专利]一种耐BOE腐蚀的金属掩膜制备方法有效
| 申请号： | 201710399984.9 | 申请日： | 2017-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN107299318B | 公开（公告）日： | 2019-07-12 |
| 发明（设计）人： | 马日红;毕小伟;梁德春;马跃飞;刘福民 | 申请（专利权）人： | 北京航天控制仪器研究所 |
| 主分类号： | C23C14/18 | 分类号： | C23C14/18;C23C14/35;C23C14/02;C03C17/40 |
| 代理公司： | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人： | 马全亮 |
| 地址： | 100854 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 boe 腐蚀 金属 制备 方法 | ||
1.一种耐BOE腐蚀的金属掩膜制备方法，步骤如下：
步骤a：对待镀膜的目标物进行清洗；
步骤b；对清洗之后的目标物进行镀膜处理；
其特征在于：进行镀膜处理时，采用单层Cr/Au掩膜；
所述步骤a具体为：将目标物置于浓硫酸和双氧水混合清洗液中浸泡；
所述混合清洗液温度为110℃～130℃，浸泡时间15～30min；
步骤b具体包括如下步骤：
(1)将清洗之后的目标物放入溅射镀膜设备中，进行抽真空处理；
(2)采用磁控溅射的方式镀Cr膜；溅射气体为N2和Ar的混合气，N2和Ar的混合气中N2所占体积比为40％～60％；
(3)采用磁控溅射的方式镀Au膜；
(4)对镀膜之后的目标物进行自然冷却。
2.如权利要求1所述的一种耐BOE腐蚀的金属掩膜制备方法，其特征在于：所述步骤(1)抽真空处理具体为抽真空至5E-7Torr以下。
3.如权利要求1所述的一种耐BOE腐蚀的金属掩膜制备方法，其特征在于：所述步骤(2)采用磁控溅射的方式镀Cr膜时，溅射气压为5～10mTorr，镀膜温度为100～350℃，溅射功率为100～300W。
4.如权利要求1所述的一种耐BOE腐蚀的金属掩膜制备方法，其特征在于：所述步骤(3)采用磁控溅射的方式镀Au膜时，溅射气体为Ar，溅射气压为5～10mTorr，镀膜温度为100～350℃，溅射功率为100～300W。
5.如权利要求1～4中任一项所述的一种耐BOE腐蚀的金属掩膜制备方法，其特征在于：所述目标物为石英晶体、石英玻璃或者单晶硅。
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