[发明专利]显示装置及其制造方法在审
申请号: | 201710402770.2 | 申请日: | 2017-06-01 |
公开(公告)号: | CN107452752A | 公开(公告)日: | 2017-12-08 |
发明(设计)人: | 尹元珉;金利受;朴应晳;李炳德;赵尹衡;朱容赞 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 | 代理人: | 刘灿强,尹淑梅 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 及其 制造 方法 | ||
1.一种显示装置,所述显示装置包括:
基底;
显示部,布置在所述基底上并包括多个显示元件;以及
包封件,布置在所述显示部上并包封所述显示部,
其中,所述包封件包括至少一个无机膜和至少一个有机膜,
所述至少一个有机膜包括基质和分散在所述基质中的紫外光吸收剂。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述紫外光吸收剂是包括羟基的化合物。
3.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述紫外光吸收剂包括二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、苯甲酸酯化合物、氰基丙烯酸酯化合物、三嗪化合物、草酰苯胺化合物和水杨酸酯化合物中的一种或更多种。
4.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述紫外光吸收剂与所述基质交联。
5.根据权利要求4所述的显示装置,其中,所述紫外光吸收剂是包括丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基和环氧基中的至少一种的化合物。
6.根据权利要求1所述的显示装置,其中:
所述至少一个有机膜包括第一有机膜和第二有机膜,
所述第一有机膜包括第一紫外光吸收剂,所述第二有机膜包括第二紫外光吸收剂,被所述第一紫外光吸收剂吸收的光的波长范围与被所述第二紫外光吸收剂吸收的光的波长范围不同。
7.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述至少一个有机膜对于具有430nm或更长的波长的光呈现80%或更高的透射率。
8.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述至少一个有机膜对于具有405nm或更短的波长的光呈现小于或等于10%的透射率。
9.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述包封件具有其中交替地堆叠有所述至少一个无机膜和所述至少一个有机膜的结构。
10.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述显示元件至少在朝向所述包封件的方向上发射光。
11.一种制造显示装置的方法,所述方法包括:
在基底上形成包括多个显示元件的显示部;以及
在所述显示部上形成包封所述显示部的包封件,
其中,所述包封件的形成包括形成至少一个无机膜和形成至少一个有机膜,
所述至少一个有机膜形成为包括基质和分散在所述基质中的紫外光吸收剂。
12.根据权利要求11所述的方法,其中,所述紫外光吸收剂包括二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、苯甲酸酯化合物、氰基丙烯酸酯化合物、三嗪化合物、草酰苯胺化合物和水杨酸酯化合物中的一种或更多种。
13.根据权利要求11所述的方法,其中,在形成所述至少一个有机膜中,在所述基底上形成包括第一单体和第二单体的混合物的有机膜形成层,所述第一单体组成所述基质,所述第二单体包括所述紫外光吸收剂。
14.根据权利要求13所述的方法,其中,所述有机膜形成层包括彼此交联的所述第一单体和所述第二单体。
15.根据权利要求14所述的方法,其中,所述第二单体包括丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基和环氧基中的一种或更多种。
16.根据权利要求11所述的方法,其中,形成所述至少一个有机膜包括形成包含第一紫外光吸收剂的第一有机膜和形成包含第二紫外光吸收剂的第二有机膜,被所述第一紫外光吸收剂吸收的光的波长范围与被所述第二紫外光吸收剂吸收的光的波长范围不同。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的