[发明专利]一种摄像模组、电子设备、污点修复方法及系统

权利要求书

1.一种污点修复方法，其特征在于，应用于摄像模组，所述摄像模组包括镜头模组和感光芯片，所述镜头模组包括滤光片；所述污点修复方法包括：

在所述摄像模组拍摄照片时，检测所述滤光片和感光芯片表面的污点；

根据检测到的污点位置对所述摄像模组拍摄的照片进行污点修复处理。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据检测到的污点位置对所述摄像模组拍摄的照片进行污点修复处理包括：

根据检测到的污点位置确定所述照片中与所述污点位置对应的待处理位置；

利用待处理位置预设范围内图像的像素点对所述待处理位置进行污点修复处理。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述利用待处理位置预设范围内图像的像素点对所述待处理位置进行污点修复处理包括：

将所述待处理位置预设范围内图像的像素点作为样本点；

根据所述样本点的特征参数对所述待处理位置进行污点修复处理。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述特征参数包括：纹理、光照、透明度和阴影参数。

5.一种污点修复系统，其特征在于，应用于摄像模组，所述摄像模组包括镜头模组和感光芯片，所述镜头模组包括滤光片；所述污点修复系统包括：

污点检测模块，用于在所述摄像模组拍摄照片时，检测所述滤光片和感光芯片表面的污点；；

修复模块，用于根据检测到的污点位置对所述摄像模组拍摄的照片进行污点修复处理。

6.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，所述修复模块包括：

位置确定单元，用于根据检测到的污点位置确定所述照片中与所述污点位置对应的待处理位置；

处理单元，用于利用待处理位置预设范围内图像的像素点对所述待处理位置进行污点修复处理。

7.根据权利要求6所述的系统，其特征在于，所述处理单元包括：

样本点确定单元，用于将所述待处理位置预设范围内图像的像素点作为样本点；

污点修复单元，用于根据所述样本点的特征参数对所述待处理位置进行污点修复处理。

8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，所述特征参数包括：纹理、光照、透明度和阴影参数。

9.一种摄像模组，包括镜头模组和感光芯片，所述镜头模组包括滤光片，其特征在于，还包括：如权利要求5-8任一项所述的污点修复系统。

10.一种电子设备，其特征在于，包括如权利要求9所述的摄像模组。