[发明专利]一种基于反模的“I”型结构PDMS基体的制造方法有效

专利信息
申请号: 201710403971.4 申请日: 2017-06-01
公开(公告)号: CN107275439B 公开(公告)日: 2018-10-30
发明(设计)人: 赵晋生;师明星 申请(专利权)人: 西南交通大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 成都盈信专利代理事务所(普通合伙) 51245 代理人: 张澎
地址: 610031 四川省成都市高新*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 结构 pdms 基体 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种基于反模的“I”型结构PDMS基体的制造方法,用于制造“I”型结构的由岛体(1)、连接柱体(2)和基底(3)构成的聚二甲基硅氧烷PDMS基体;所述的“I”型结构是连接柱体2以等间距列阵式分布于连续的基底3之上,岛体(1)位于连接柱体(2)之上,其中岛体(1)的横向尺寸大于连接柱体(2)的横向尺寸;包括如下处理步骤:

步骤一:硅模具的制备

对硅片进行两次深度为100μm的表面图案化刻蚀,制备得到具有台阶状凸点的硅模具;

步骤二:PDMS反模具的制备

(A)配制分别用主剂和硬化剂以质量比为5:1和10:1比例混合均匀,并且抽真空30分钟~40分钟,得到的1号液态PDMS和2号液态PDMS,将1号液态PDMS滴入步骤一中制备的硅模具内,使得1号液态PDMS刚好没过硅模具边缘和凸点顶部;

(B)放入真空箱,再次抽真空20分钟~30分钟,使得1号液态PDMS浸润到硅模具的坑槽中;

(C)去除硅模具边缘和凸点顶部由于过剩流出的1号液态PDMS;

(D)放入120℃的烘箱中热烘一个小时,使其固化;

(E)再次去除残留在硅模具边缘和凸点顶部的固态PDMS残渣;

(F)脱模,制得PDMS反模具;

步骤三:PDMS反模具的表面处理

(A)修剪,裁去边缘不规整残渣,并用去离子水冲洗后放入玻璃容器中;

(B)PDMS反模具的表面清洗;

(C)将清洗后的PDMS反模具分别对其正面和反面喷涂AZ4620光刻胶,在其表面形成一层厚度为5μm~10μm的隔离膜,制得最终处理完毕的PDMS反模具;

步骤四:利用PDMS反模具倒模

(A)将步骤三处理得到的PDMS反模具平铺固定在干净的硅片上;

(B)将硅片安装在匀胶机上,在转速为300转/分的条件上,滴加入1毫升~2毫升的2号液态PDMS,匀胶20秒~30秒后,得到第一次旋涂片;

(C)将第一次旋涂片放入真空箱,抽真空40分钟~50分钟,使得2号液态PDMS浸润到PDMS反模具的孔洞内;

(D)再次将硅片安装在匀胶机上,在转速为300转/分的条件上,滴加入1毫升~2毫升的2号液态PDMS,匀胶20秒~30秒后,得到第二次旋涂片;

(E)放入65℃的烘箱中热烘两个小时,使其固化;

(F)将固化后的二次旋涂片取出,放入玻璃容器中,向玻璃容器中加入10毫升~20毫升的丙酮,然后将玻璃容器放置于超声清洗机中,在功率700瓦~1000瓦、工作频率28KHz~40KHz的条件下超声清洗20分钟~30分钟,分离PDMS反模具和“I”型结构PDMS基体;

(G)将“I”型结构PDMS基体取出,用去离子水冲洗10秒,放入另一玻璃容器中,加入质量浓度为95%的无水乙醇,然后放置于超声清洗机中,在功率700瓦~1000瓦、工作频率28KHz~40KHz的条件下超声清洗10分钟~20分钟;

(H)烘干,得到“I”型结构PDMS基体。

2.根据权利1所述的基于反模的“I”型结构PDMS基体的制造方法,其特征在于,所述步骤二(B)PDMS反模具的表面清洗,包括如下步骤:

(A)向玻璃容器中加入10毫升~20毫升的正己烷,然后放置于超声清洗机中,在功率700瓦~1000瓦、工作频率28KHz~40KHz的条件下超声清洗10分钟~20分钟得到第一次处理后的PDMS反模具;

(B)将第一次处理后的PDMS反模具取出,用去离子水冲洗10秒,放入另一玻璃容器中,向玻璃容器中加入10毫升~20毫升的丙酮,然后将玻璃容器放置于超声清洗机中,在功率700瓦~1000瓦、工作频率28KHz~40KHz的条件下超声清洗10分钟~20分钟得到第二次处理后的PDMS反模具;

(C)将第二次处理后的PDMS反模具取出,用去离子水冲洗10秒,放入另一玻璃容器中,加入质量浓度为95%的无水乙醇,然后放置于超声清洗机中,在功率700瓦~1000瓦、工作频率28KHz~40KHz的条件下超声清洗10分钟~20分钟得到第三次处理后的PDMS反模具。

3.根据权利1所述的基于反模的“I”型结构PDMS基体的制造方法,其特征在于,所述连接柱体(2)可以是正方立柱体、圆柱体或菱形柱体。

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