[发明专利]按摩单元及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种按摩单元，其特征在于，所述按摩单元主要由基体材料制备而成，所述基体材料的表面具有亲水润滑涂层；

所述基体材料主要由质量比为1：1～1.5的硅橡胶A组分和硅橡胶B组分混合制备而成；

所述硅橡胶A组分主要由以下质量份数的原料制备而成：

甲基乙烯基聚二甲基硅氧烷80～120份、白炭黑10～40份、氧化镁5～30份和铂类催化剂0.1～1份；

所述硅橡胶B组分主要由以下质量份数的原料制备而成：

甲基乙烯基聚二甲基硅氧烷10～30份、甲基含氢聚二甲基硅氧烷70～90份、双酚A 0.1～10份、填料0.5～20份、抑制剂0.01～2份和添加剂0.01～10份；

所述亲水润滑涂层包括接枝改性层和亲水润滑层，所述接枝改性层设于所述基体材料的外表面，所述亲水润滑层设于所述接枝改性层外表面；所述接枝改性层与所述亲水润滑层形成互穿交联网络；

所述接枝改性层中的接枝单体为OP－10和PEG1000的混合物；

所述亲水润滑层中的亲水性单体为水性环氧丙烯酸酯、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酰胺、双丙酮丙烯酰胺、丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵或甲基丙烯酰氧乙基二甲基苄基氯酰胺中的一种或两种；

所述亲水润滑涂层的制备方法包括以下步骤：

(a)将高压灭菌后的基体材料浸泡在含有光敏剂的丙酮溶液中，进行预处理；

(b)将预处理后的基体材料放入装有OP－10和PEG1000的混合溶液的反应器中，反应器密闭，通入氮气，用紫外光辐照接枝25min～55min，在基体材料表面形成接枝改性层；

(c)将表面附有接枝改性层的基体材料进行残留物的去除；

(d)在氮气保护下，将步骤(c)得到的材料浸入含有亲水性单体和引发剂的溶剂中，在紫外光下辐照1min～8min；

(e)将步骤(d)得到的材料浸入含有交联剂和添加剂的溶剂中，在紫外光下进行辐照交联1min～20min，在接枝改性层的表面形成亲水润滑层。

2.根据权利要求1所述的按摩单元，其特征在于，所述基体材料主要由质量比为1：1的硅橡胶A组分和硅橡胶B组分混合制备而成。

3.根据权利要求1所述的按摩单元，其特征在于，所述铂类催化剂为铂粉末、铂黑、氯铂酸、氯铂酸的烯烃络合物或氯铂酸与二乙烯基甲基二硅氧烷的络合物。

4.根据权利要求1所述的按摩单元，其特征在于，所述填料为纳米硅或纳米二氧化钛。

5.根据权利要求1所述的按摩单元，其特征在于，所述抑制剂为1，3－二乙烯基二甲基二硅氧烷或四甲基四乙烯基环四硅氧烷。

6.根据权利要求1所述的按摩单元，其特征在于，所述添加剂为过氧化苯甲酰、二枯基过氧化物或2，5－二甲基－2，5－二叔丁基过氧化己烷。

7.根据权利要求1所述的按摩单元，其特征在于，所述步骤(a)中，所述光敏剂为二苯甲酮，光敏剂二苯甲酮的浓度为0.03g/mL～0.06g/mL。

8.根据权利要求1所述的按摩单元，其特征在于，所述步骤(b)中，所述OP－10按照0.1v/v％～1v/v％溶入质量浓度为50％的PEG1000水溶液中。

9.根据权利要求1所述的按摩单元，其特征在于，所述步骤(c)中，将表面附有接枝改性层的基体材料浸泡在30℃～50℃的蒸馏水或去离子水中5min～20min，或者浸泡在体积浓度为20％～50％的乙醇水溶液中5min～20min，以去除表面残留的均聚物。