[发明专利]用于生产光学元件的方法

权利要求书

1.用于生产光学元件的方法，该光学元件包括主体，该主体带有第一侧表面和至少一个第二侧表面，该第一侧表面具有第一光学涂层，该至少一个第二侧表面并非平面平行于该第一侧表面并且具有第二光学涂层，该方法包括以下步骤：

- 确定该第一侧表面的该第一光学涂层在该光学元件中引起的应力；

- 确定对抗应力，从而使得在该光学元件中引起的合成总应力尽可能小；

- 在考虑所确定的对抗应力和这个第二光学涂层的光学参数的同时确定该第二光学涂层；

- 将该第一光学涂层涂覆在该第一侧表面上；

- 将该第二光学涂层涂覆在该至少一个第二侧表面上。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该第二涂层是在以下条件下确定的：带有相应涂层的该第一侧表面的和/或该第二侧表面的方均根值被限制为最大值为主波长的10%，和/或其斯特列尔比或它们的斯特列比为至少0.8。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，使用有限元法的计算方法来确定该第一侧表面的该光学涂层在该光学元件中引起的抵抗应力和/或应力和/或确定该第二涂层。

4.根据权利要求1至3之一所述的方法，其特征在于，在将该第一光学涂层涂覆在该第一侧表面上并且将该第二光学涂层涂覆在该至少一个第二侧表面上之后，实验性地确定了在该光学元件中实际引起的总应力、将之与所期望的总应力相比较、并且在偏差过大的情况下对该第一光学涂层和/或第二光学涂层和/或该光学元件的进一步的侧表面加以局部加工。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，通过磁流变抛光或离子束抛光来实施该局部加工。

6.根据权利要求1至5之一所述的方法，其特征在于，修改该光学元件的主体。

7.根据权利要求1至6之一所述的方法，其特征在于，这些光学涂层是通过离子辅助或等离子体辅助物理气相沉积法或通过溅射法涂覆的。

8.通过根据权利要求1至7之一所述的方法生产的光学元件。

9.根据权利要求8所述的光学元件，其特征在于，该至少一个第二侧表面邻接该第一侧表面。

10.根据权利要求8或9所述的光学元件，其特征在于，该光学元件的主体或该主体的子单元被形成为棱镜（105，205）或楔形板。

11.根据权利要求8至10之一所述的光学元件，其特征在于，该光学元件具有第一或第二光学涂层，该第一或第二光学涂层形成为减反射涂层、形成为反射涂层或形成为滤光层。

12.根据权利要求8至11之一所述的光学元件，其特征在于，该光学元件被设计成用于在红外和/或可见光波长范围内使用。