[发明专利]自成纳米孔隙增透涂层的制备方法

权利要求书

1.一种自成纳米孔隙增透涂层的制备方法，其特征在于：通过自由基聚合将苯乙烯与丙烯酸聚硅氧烷酯单体进行共聚，制备出具有元素有机结构的共聚物，甲苯溶解后通过匀胶机将共聚物均匀地涂覆于聚酯薄膜等材料表面。

2.根据权利要求1所述的自成纳米孔隙增透涂层的制备方法，具体包括：

1）丙烯酸聚硅氧烷酯单体合成：端羟基聚硅氧烷与丙烯酰氯在溶剂中，三乙胺为缚酸剂反应得到丙烯酸聚硅氧烷酯，密封低温保存；

2）通过苯乙烯、丙烯酸聚硅氧烷酯单体在引发剂存在的条件下以一定的温度反应得到产物，然后将产物密封保存；

3）光学增透用共聚物涂层的制备：将2）中反应所得的产物配制成一定浓度的溶液，通过匀胶机均匀地涂覆于聚酯薄膜等材料表面。

3.根据权利要求2所述的自成纳米孔隙增透涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤2）具体包括在充满惰性气体的反应瓶中加入丙烯酸聚硅氧烷酯、苯乙烯、引发剂、溶液，抽真空通惰性气体，循环3次，密闭后置于一定温度的恒温油浴中，反应指定的时间，所得反应产物即为光学增透共聚物。

4.根据权利要求3所述的自成纳米孔隙增透涂层的制备方法，其特征在于：所述聚合反应温度为60~80℃。

5.根据权利要求2和3所述的自成纳米孔隙增透涂层的制备方法，其特征在于：所述溶剂为甲苯。