[发明专利]MRI装置的有源电阻补偿有效
申请号: | 201710417106.5 | 申请日: | 2012-12-11 |
公开(公告)号: | CN107300680B | 公开(公告)日: | 2021-01-01 |
发明(设计)人: | 施玛瑜·M·施瓦特斯曼;詹姆士·F·登普西;高登·戴米斯特 | 申请(专利权)人: | 优瑞技术公司 |
主分类号: | G01R33/3875 | 分类号: | G01R33/3875;G01R33/38;G01R33/48 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 胡春光;张颖玲 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | mri 装置 有源 电阻 补偿 | ||
在磁共振成像(MRI)系统中可以使用有源电阻匀场线圈组件(208),以降低成像容积中磁场的非均匀性。公开的实施例可以与连续系统、豁开的圆柱形系统或者垂直豁开系统一起使用。公开的实施例还可以与开放式MRI系统一起使用和可以和在MRI系统的缺口(102)中布置的仪器(104)一起使用。本公开的有源电阻匀场线圈组件的示范性实施例包括有源电阻匀场线圈,每个有源电阻匀场线圈都可操作以便由穿过多个电源通道的分开的电流激励。在一些实施例中,公开的有源电阻匀场线圈组件允许以各种自由度以补偿场非均匀性。
本申请是申请号为201280069285.3、申请日为2012年12月11日、发明名称为“MRI装置的有源电阻补偿”的PCT国际发明专利申请的分案申请。
相关申请的交叉引用
本PCT申请要求2011年12月13日提交的、名称为“MRI装置的有源电阻补偿(resistive shimming)”的、申请序列号为No.13/324,850的美国专利申请的优先权,在此通过引用将其全部公开并入本文中。
技术领域
本申请涉及用于磁共振成像(“MRI”)的系统和方法,尤其涉及MRI系统的有源补偿。
背景技术
磁共振成像,或者核磁共振成像是在放射学中最常用的使身体的内部结构和功能可见的医学成像技术。例如,E.MARK HAACKE等人的磁共振成像:特性原理及序列设计(MAGNETIC RESONANCE IMAGING:PHYSICAL PRINCIPLES AND SEQUENCE DESIGN)(Wiley-Liss,1999)描述了MRI方法和技术,在此通过引用将其并入本文。本公开涉及磁共振技术。发现了与医学磁共振成像结合的特定应用并将以此为特定的参考进行描述。然而,应该意识到,本公开还发现了结合其它类型磁共振成像系统、磁共振光谱学系统等的应用。
发明内容
磁共振成像(MRI)系统的示范性实施例包括第一磁体,在第一磁体和MRI系统的纵轴之间布置的第一梯度线圈,和在第一磁体的外部且邻近第一梯度线圈布置的有源电阻匀场线圈组件。该有源电阻匀场线圈组件包括多个匀场线圈,且该多个匀场线圈每个都连接到多个电源通道,并且可操作以便由通过多个电源通道的分开的电流激励。
有源电阻匀场线圈组件的示范性实施例包括包含四个象限(quadrant)的有源X匀场线圈,其中X匀场线圈的四个象限的第一对关于中心平面对称地布置中心平面,并且X匀场线圈的四个象限的第二对也关于中心平面对称地布置中心平面。有源电阻匀场线圈组件可以进一步包括包含四个象限的有源Y匀场线圈,其中Y匀场线圈的四个象限的第一对关于中心平面对称地布置中心平面,并且Y匀场线圈的四个象限的第二对也关于中心平面对称地布置中心平面。有源电阻匀场线圈组件可以进一步包括有源Z匀场线圈,有源Z匀场线圈包含关于中心平面对称布置的一对半部分(half)的中心平面。在实施例中,有源X匀场线圈、有源Y匀场线圈和有源Z匀场线圈每个都可操作以便由通过多个电源通道的分开的电流激励,并且有源匀场线圈组件不包括二阶或者更高阶的匀场线圈。
磁共振成像(MRI)系统的另一示范性实施例包括磁体,在该磁体和MRI系统的纵轴之间布置的梯度线圈,和在该磁体外部且邻近梯度线圈布置的有源电阻匀场线圈组件。该有源电阻匀场线圈组件包括多个匀场线圈,并且该多个匀场线圈包括:1)包含四个象限的有源X匀场线圈,其中有源X匀场线圈的四个象限的第一对关于MRI系统的中心平面对称地布置,并且X匀场线圈的四个象限的第二对也关于该中心平面对称地布置;2)包含四个象限的有源Y匀场线圈,其中Y匀场线圈的四个象限的第一对关于该中心平面对称地布置,并且Y匀场线圈的四个象限的第二对也关于该中心平面对称地布置;和3)有源Z匀场线圈,有源Z匀场线圈包含关于中心平面对称布置的一对半部分(half)中心平面。有源X匀场线圈、有源Y匀场线圈和有源Z匀场线圈每个都可操作以便由通过多个电源通道的分开的电流激励,并且有源电阻匀场线圈组件不包括二阶或者更高阶的匀场线圈。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于优瑞技术公司,未经优瑞技术公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710417106.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:器件布置结构组件和测试方法
- 下一篇:估计卫星定位可靠性的方法和装置