[发明专利]彩膜基板及其制备方法、显示面板

权利要求书

1.一种彩膜基板的制备方法，包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上形成黑色矩阵层和多个第一子像素单元，其特征在于，所述黑色矩阵层和多个所述第一子像素单元采用相同材料的光刻胶制备而成，所述光刻胶的材料包括不可逆温变颜料，所述光刻胶受热后变成黑色，所述光刻胶未变色前的颜色与所述第一子像素单元的颜色相同。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述在所述衬底基板上形成黑色矩阵层和多个所述第一子像素单元，具体包括：

在所述衬底基板上设置所述光刻胶以形成光刻胶层；

采用第一掩模板对所述光刻胶层进行曝光、显影形成图案层，所述图案层包含多个阵列分布的开口区域以及用于形成多个所述第一子像素单元的条状保留区域；

对所述图案层除设定区域以外的区域进行加热，形成黑色矩阵层以及多个间隔分布的所述第一子像素单元，所述设定区域位于所述条状保留区域内且与形成的多个所述第一子像素单元所在区域重合。

3.根据权利要求2所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述第一掩模板包括：遮光区域和用于形成多个所述开口区域的透光区域。

4.根据权利要求2所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述对所述图案层除设定区域以外的区域进行加热具体包括：

采用加热层对所述图案层进行加热，所述加热层与所述设定区域对应的部分为绝热区。

5.根据权利要求1所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述在所述衬底基板上形成黑色矩阵层和多个所述第一子像素单元，具体包括：

在所述衬底基板上设置所述光刻胶以形成第一光刻胶层；

采用第二掩膜板对所述第一光刻胶层进行曝光、显影形成与黑色矩阵层形状相同的图案层；

对所述图案层进行加热形成黑色矩阵层；

在所述黑色矩阵层上设置所述光刻胶以形成第二光刻胶层，采用第三掩模板对所述第二光刻胶层进行曝光、显影形成多个所述第一子像素单元。

6.根据权利要求1～5任一项所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述第一子像素单元的颜色为黄色，所述彩膜基板的制备方法还包括：形成多个第二子像素单元、多个第三子像素单元以及多个第四子像素单元。

7.根据权利要求6所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述光刻胶的材料包括：

20～50质量份的树脂；

10～30质量份的活性稀释剂；

20～40质量份的溶剂；

10～25质量份的不可逆温变颜料，其中：所述不可逆温变颜料为：

(NH4)3PO4·12MoO3；

1～5质量份的光引发剂；

2～8质量份的助剂。

8.根据权利要求7所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述光刻胶的透过率为20.1％～40.2％。

9.一种彩膜基板，包括：衬底基板、位于所述衬底基板上的黑色矩阵层以及填充于所述黑色矩阵层的开口区域内的彩色滤光层，所述彩色滤光层包括多种颜色的子像素单元；其特征在于，所述黑色矩阵层和任意一种颜色的子像素单元的形成材料相同，所述形成材料包括不可逆温变颜料，所述形成材料受热后变成黑色。

10.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求9所述的彩膜基板。