[发明专利]一种锂离子印迹膜的合成方法及其用途

权利要求书

1.一种锂离子印迹膜的合成方法，其特征在于，步骤如下：

步骤1、将聚偏氟乙烯粉末与聚乙烯吡咯烷酮加入到N，N′-二甲基乙酰胺中，恒温下机械搅拌，机械搅拌完成后，保持温度不变静置，通过相转化技术形成PVDF基膜，把此PVDF基膜放在去离子水中保存；

步骤2、将步骤1得到的PVDF基膜浸入到Tris-HCl溶液中，再加入多巴胺，室温下机械振荡，得到表面具有聚多巴胺层的PVDF基膜；

将12-冠醚-4与氯化锂加入到甲醇中，将所述表面具有聚多巴胺层的PVDF基膜浸入到所述混合溶液中，再加入二甲基丙烯酸乙二醇酯和偶氮二异丁腈，形成混合液，通惰性气体后密封，置于恒温水浴振荡器中反应；

步骤3、将步骤2反应后得到的膜用酸洗脱，得到锂离子印迹膜。

2.根据权利要求1所述的一种锂离子印迹膜的合成方法，其特征在于，步骤1中，所述聚偏氟乙烯、聚乙烯吡咯烷酮、N，N′-二甲基乙酰胺的用量比为4g：(0.01～0.04)g：25～40mL；所述恒温为30℃，所述机械搅拌的时间为12h；所述静置时间为24h。

3.根据权利要求1所述的一种锂离子印迹膜的合成方法，其特征在于，步骤2中，所述多巴胺与所述Tris-HCl溶液中的浓度为2～4mg/mL，所述Tris-HCl溶液的浓度为10～30mM，PH＝8.5；所述混合液中，所使用的12-冠醚-4、氯化锂、二甲基丙烯酸乙二醇酯、偶氮二异丁腈、甲醇的用量比为0.6～1.2g：0.3g：0.4～0.8mmol：8～10mg：50mL；所述惰性气体为氮气；所述恒温水浴振荡器的温度为60℃，所述反应的时间为18h。

4.根据权利要求1所述的一种锂离子印迹膜的合成方法，其特征在于，步骤3中，所述的酸为HCl，浓度为0.2-0.5mol L^-1。

5.权利要求1～4任意一项所述的方法制备的锂离子印迹膜用于吸附锂离子的用途。