[发明专利]一种光学膜厚监控装置及监控方法在审
申请号: | 201710425177.X | 申请日: | 2017-06-07 |
公开(公告)号: | CN107218895A | 公开(公告)日: | 2017-09-29 |
发明(设计)人: | 孟小龙 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06;G05D5/03 |
代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司11372 | 代理人: | 吴大建,何娇 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光学 监控 装置 方法 | ||
1.一种光学膜厚监控装置,用于监控涂布基板上的涂层厚度,其特征在于,所述监控装置包括光感测系统和处理器,所述光感测系统与所述处理器电性连接;
其中,所述光感测系统用于检测预涂滚筒上的涂层厚度,所述处理器用于根据所述预涂滚筒上的涂层厚度获取所述涂布基板上的涂层厚度。
2.根据权利要求1所述的光学膜厚监控装置,其特征在于,所述光感测系统包括光源发射系统、信号接收系统和计算单元,所述计算单元分别与所述光源发射系统和所述信号接收系统电性连接;
其中,所述光源发射系统用于向所述预涂滚筒表面发射入射光;
所述信号接收系统,在涂布涂层前用于接收所述入射光经所述预涂滚筒表面反射后的第一反射光,在涂布涂层后用于接收所述入射光经所述预涂滚筒上的涂层表面反射后的第二反射光;
所述计算单元根据信号接收系统接收到的反射光信号得到所述预涂滚筒上的涂层厚度。
3.根据权利要求1所述的光学膜厚监控装置,其特征在于,所述处理器包括数据库,所述数据库用于存储所述预涂滚筒上的涂层厚度和所述涂布基板上的涂层厚度的对应关系。
4.根据权利要求2所述的光学膜厚监控装置,其特征在于,所述光源发射系统包括光源以及沿所述光源发出的光的前进方向上依次设置的狭缝和第一会聚镜,所述信号接收系统包括沿光的反射方向上依次设置的第二会聚镜和线性传感器;
其中,所述线性传感器包括受光单元和放大器,所述受光单元用于接收所述第一反射光和所述第二反射光,所述放大器用于放大受光单元接收到的光信号。
5.根据权利要求4所述的光学膜厚监控装置,其特征在于,所述光源发射系统还包括第一折光组件,所述第一折光组件、第一会聚镜和狭缝组成同光轴系统。
6.根据权利要求4所述的光学膜厚监控装置,其特征在于,所述信号接收系统还包括第二折光组件,所述第二折光组件、第二会聚镜和线性传感器组成同光轴系统。
7.根据权利要求1所述的光学膜厚监控装置,其特征在于,所述入射光与所述预设滚筒上的涂层表面的切线之间的夹角小于或等于12度。
8.根据权利要求1所述的光学膜厚监控装置,其特征在于,所述处理器连接涂布控制器,所述涂布控制器连接涂布头;其中,所述涂布控制器接收所述处理器获取到的涂布基板上涂层厚度的信号,并藉以实时控制所述涂布头以调整所述涂布基板上涂层的厚度。
9.一种采用权利要求1-8任一项所述的光学膜厚监控装置监控涂布基板上涂层厚度的方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、获取预涂滚筒上的涂层厚度;
S2、根据所述预涂滚筒上的涂层厚度获取所述涂布基板上的涂层厚度。
10.根据权利要求9所述的监控涂布基板上涂层厚度的方法,其特征在于,所述步骤S1包括:
S11、向所述预涂滚筒发射入射光,检测所述入射光在涂布涂层前经所述预涂滚筒表面反射后的第一反射光,及检测所述入射光在涂布涂层后经所述预涂滚筒上的涂层表面反射后的第二反射光;
S12、根据信号接收系统接收到的反射光信号得到预涂滚筒上的涂层厚度。
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