[发明专利]表面处理剂

权利要求书

1.一种表面处理剂，其特征在于：

含有(a)含氟硅烷化合物和(b)含氟表面活性剂，

在该表面处理剂中，(b)含氟表面活性剂相对于(a)含氟硅烷化合物和(b)含氟表面活性剂的合计的比例为6质量％以上。

2.根据权利要求1所述的表面处理剂，其特征在于：

所述含氟硅烷化合物是含全氟聚醚基的硅烷化合物。

3.根据权利要求1或2所述的表面处理剂，其特征在于：

所述含氟硅烷化合物为式(A1)、(A2)、(B1)、(B2)、(C1)、(C2)、(D1)或(D2)所示的至少1种含全氟聚醚基的硅烷化合物，

(Rf-PFPE)_β1’-X³-(SiR¹³_n1R¹⁴_3-n1)_β1 …(B1)

(R¹⁴_3-n1R¹³_n1Si)_β1-X³-PFPE-X³-(SiR¹³_n1R¹⁴_3-n1)_β1 …(B2)

(Rf-PFPE)_γ1’-X⁵-(SiR^a_k1R^b₁₁R^c_m1)_γ1 …(C1)

(R^c_m1R^b₁₁R^a_k1Si)_γ1-X⁵-PFPE-X⁵-(SiR^a_k1R^b₁₁R^c_m1)_γ1 …(C2)

(Rf-PFPE)_δ1’-X⁷-(CR^d_k2R^e_l2R^f_m2)_δ1 …(D1)

(R^f_m2R^e₁₂R^d_k2C)_δ1-X⁷-PFPE-X⁷-(CR^d_k2R^e_l2R^f_m2)δ₁(D2)

式中，

PFPE在每次出现时分别独立地为式-(OC₆F₁₂)_a-(OC₅F₁₀)_b-(OC₄F₈)_c-(OC₃F₆)_d-(OC₂F₄)_e-(OCF₂)_f-所示的基团，

式中，a、b、c、d、e和f分别独立地为0以上200以下的整数，a、b、c、d、e和f之和至少为1，标注a、b、c、d、e或f且用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的；

Rf在每次出现时分别独立地表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1～16的烷基；

R¹³在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团；

R¹⁴在每次出现时分别独立地表示氢原子或碳原子数1～22的烷基；

R¹¹在每次出现时分别独立地表示氢原子或卤原子；

R¹²在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基；

n1在每个(-SiR¹³_n1R¹⁴_3-n1)单元中独立地为0～3的整数；

其中，在式(A1)、(A2)、(B1)和(B2)中，至少1个n1为1～3的整数；

X¹在每次出现时分别独立地表示单键或2～10价的有机基团；

X²在每次出现时分别独立地表示单键或2价的有机基团；

t在每次出现时分别独立地为1～10的整数；

α1在每次出现时分别独立地为1～9的整数；

α1′分别独立地为1～9的整数；

X³在每次出现时分别独立地表示单键或2～10价的有机基团；

β1在每次出现时分别独立地为1～9的整数；

β1′分别独立地为1～9的整数；

X⁵在每次出现时分别独立地表示单键或2～10价的有机基团；

γ1在每次出现时分别独立地为1～9的整数；

γ1′分别独立地为1～9的整数；

R^a在每次出现时分别独立地表示-Z³-SiR⁷¹_p1R⁷²_q1R⁷³_r1；

Z³在每次出现时分别独立地表示氧原子或2价的有机基团；

R⁷¹在每次出现时分别独立地表示R^a′；

R^a′的含义与R^a相同；

R^a中，经由Z³基以直链状连接的Si最多为5个；

R⁷²在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团；

R⁷³在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基；

p1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

q1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

r1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

其中，在每个(-Z³-SiR⁷¹_p1R⁷²_q1R⁷³_r1)中，p1、q1和r1之和为3，在式(C1)和(C2)中，至少1个q1为1～3的整数；

R^b在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团；

R^c在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基；

k1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

l1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

m1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

其中，在每个(SiR^a_k1R^b_l1R^c_m1)中，k1、l1和m1之和为3；

X⁷分别独立地表示单键或2～10价的有机基团；

δ1分别独立地为1～9的整数；

δ1′分别独立地为1～9的整数；

R^d在每次出现时分别独立地表示-Z⁴-CR⁸¹_p2R⁸²_q2R⁸³_r2；

Z⁴在每次出现时分别独立地表示氧原子或2价的有机基团；

R⁸¹在每次出现时分别独立地表示R^d′；

R^d′的含义与R^d相同；

R^d中，经由Z⁴基以直链状连接的C最多为5个；

R⁸²在每次出现时分别独立地表示-Y-SiR⁸⁵_n2R⁸⁶_3-n2；

Y在每次出现时分别独立地表示2价的有机基团；

R⁸⁵在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团；

R⁸⁶在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基；

n2在每个(-Y-SiR⁸⁵_n2R⁸⁶_3-n2)单元中独立地表示0～3的整数；

R⁸³在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基；

p2在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

q2在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

r2在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

其中，在每个(-Z⁴-CR⁸¹_p2R⁸²_q2R⁸³_r2)中，p2、q2和r2之和为3；

R^e在每次出现时分别独立地表示-Y-SiR⁸⁵_n2R⁸⁶_3-n2；

R^f在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基；

k2在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

l2在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

m2在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

其中，在每个(CR^d_k2R^e_l2R^f_m2)中，k2、l2和m2之和为3，在式(D1)和(D2)中，n2为1以上的-Y-SiR⁸⁵_n2R⁸⁶_3-n2所示的基团存在2个以上。