[发明专利]电感耦合线圈和工艺腔室

权利要求书

1.一种工艺腔室，包括射频源，匹配器，线圈，介质窗和腔室本体，所述介质窗位于所述腔室本体的顶部，并与所述腔室本体密封相连，所述介质窗的上方放置有所述线圈，所述射频源通过所述匹配器向所述线圈提供射频能量，所述线圈将所述射频能量通过所述介质窗耦合到所述工艺腔室内，其特征在于，所述线圈为电感耦合线圈，所述线圈包括至少一个线圈绕组，所述线圈绕组包括至少两个线圈分支，所述至少两个线圈分支分别位于具有预设高度差的不同的水平面内，且通过线圈过渡段相连；其中，所述电感耦合线圈的输入端和输出端位于与所述介质窗距离较远的所述线圈分支上。

2.根据权利要求1所述的工艺腔室，其特征在于，所述预设高度差与所述线圈分支的截面高度之比为(0.5～5)：1。

3.根据权利要求2所述的工艺腔室，其特征在于，所述预设高度差与所述线圈分支的截面高度之比为(1～2)：1。

4.根据权利要求1所述的工艺腔室，其特征在于，所述线圈绕组包括与所述介质窗距离较远的第一线圈分支和与所述介质窗距离较近的第二线圈分支，所述第二线圈分支的长度与所述线圈绕组的总长度之比为(0.3～0.9)：1。

5.根据权利要求4所述的工艺腔室，其特征在于，所述第二线圈分支的长度与所述线圈绕组的总长度之比为(0.4～0.6)：1。

6.根据权利要求1所述的工艺腔室，其特征在于，所述线圈过渡段的倾斜角度为10～60°。

7.根据权利要求6所述的工艺腔室，其特征在于，所述线圈过渡段的所述倾斜角度为30～45°。

8.根据权利要求1所述的工艺腔室，其特征在于，所述线圈分支为多匝螺旋线结构。

9.根据权利要求1-8任一项所述的工艺腔室，其特征在于，所述线圈包括并联的第一线圈绕组和第二线圈绕组，所述第一线圈绕组和所述第二线圈绕组形状相同并且相互嵌套。