[发明专利]曲面显示面板的制作方法、曲面显示面板及曲面显示装置

权利要求书

1.一种曲面显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

制作阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板的曲边尺寸和/或所述彩膜基板的曲边尺寸为根据预先获得的补正量调整后的尺寸；

将所述阵列基板与所述彩膜基板进行对合。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述补正量等于1减去第一尺寸与第二尺寸的比值后得到的差值；所述第一尺寸为所述曲面显示面板的曲率半径与所述彩膜基板的厚度的和，所述第二尺寸为所述第一尺寸以及所述阵列基板与所述彩膜基板之间的间距的和。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述阵列基板的曲边尺寸为加入所述补正量后的尺寸；或者，所述彩膜基板的曲边尺寸为减去所述补正量后的尺寸。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述补正量等于1减去第一尺寸与第二尺寸的比值后得到的差值；所述第一尺寸为所述曲面显示面板的曲率半径与所述阵列基板的厚度的和，所述第二尺寸为所述第一尺寸以及所述阵列基板与所述彩膜基板之间的间距的和。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述阵列基板的曲边尺寸为减去所述补正量后的尺寸；或者，所述彩膜基板的曲边尺寸为加入所述补正量后的尺寸。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的方法，其特征在于，所述制作阵列基板和彩膜基板的步骤，包括：

根据所述补正量与所述曲面显示面板的中心位置对应的坐标值，制作掩膜板；

利用所述掩膜板制作所述阵列基板或所述彩膜基板。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述利用所述掩膜板制作所述阵列基板或所述彩膜基板的步骤，包括：

利用所述掩膜板制作至少一个阵列基板或至少一个彩膜基板；所述阵列基板的曲边尺寸为以其中心位置为基准进行缩小或增大后的尺寸，或所述彩膜基板的曲边尺寸为以其中心位置为基准进行增大或缩小后的尺寸；

其中，所述掩膜板包括至少一个掩膜区域，一个掩膜区域对应形成一个阵列基板或一个彩膜基板。

8.根据权利要求1～5中任一项所述的方法，其特征在于，所述制作阵列基板和彩膜基板的步骤，包括：

根据所述补正量与所述曲面显示面板的中心位置对应的坐标值，调整曝光机的曝光位置参数；

基于所述曝光位置参数，制作所述阵列基板或所述彩膜基板。

9.一种曲面显示面板，包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，其特征在于，所述阵列基板的曲边尺寸和/或所述彩膜基板的曲边尺寸为根据预先获得的补正量调整后的尺寸。

10.根据权利要求9所述的曲面显示面板，其特征在于，所述阵列基板的非像素开口区域与所述彩膜基板上的黑矩阵之间无偏移。

11.一种曲面显示装置，其特征在于，包括如权利要求9～10任一项所述的曲面显示面板。