[发明专利]基区Ge组分分段分布的SiGe/Si异质结光敏晶体管探测器有效

专利信息
申请号: 201710436742.2 申请日: 2017-06-12
公开(公告)号: CN107302037B 公开(公告)日: 2019-05-17
发明(设计)人: 谢红云;吴佳辉;刘芮;孙丹;马佩;高杰;张万荣 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: H01L31/109 分类号: H01L31/109;H01L31/0264;H01L31/0288
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 刘萍
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 基区 ge 组分 分段 分布 sige si 异质结 光敏 晶体管 探测器
【权利要求书】:

1.基区Ge组分分段分布的SiGe/Si异质结光敏晶体管探测器,其特征在于包括:

Si衬底;在Si衬底上依次制备出的Si亚集电区、Si集电区、SiGe基区/吸收层、多晶Si发射区;探测器的光窗口位于SiGe基区/吸收层;SiGe基区/吸收层的Ge组分分段分布,从发射结异质结到集电结异质结依次分为四段,其第一段的厚度介于0.02μm到0.05μm之间,Ge组分介于0到20%之间,其第二段的厚度介于0.03μm到0.06μm之间,Ge组分介于20%到50%之间,其第三段的厚度介于0.06μm到0.09μm之间,Ge组分介于50%到80%之间,其第四段的Ge组分线性减少到0,厚度介于0.02μm到0.03μm之间。

2.根据权利要求1所述的基区Ge组分分段分布的SiGe/Si异质结光敏晶体管探测器,其特征在于:SiGe基区/吸收层的Ge组分分段分布中第一段、第二段和其第三段,Ge组分的分布是均匀或渐变或均匀与渐变相组合的形式。

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