[发明专利]一种有机发光器件及其制作方法在审
申请号: | 201710437795.6 | 申请日: | 2017-06-12 |
公开(公告)号: | CN107275500A | 公开(公告)日: | 2017-10-20 |
发明(设计)人: | 郭远征;宋平;王有为;王涛 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人: | 郭润湘 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 有机 发光 器件 及其 制作方法 | ||
1.一种有机发光器件,其特征在于,所述有机发光器件在出光侧设置有至少包括出光层的透明出光构件,所述出光层的至少一个表面呈第一波浪形。
2.如权利要求1所述的有机发光器件,其特征在于,所述出光构件还包括:设置在所述出光层之上且与所述出光层相接触的形貌保护膜层,所述出光层面向所述形貌保护膜层的一面呈所述第一波浪形;
所述形貌保护膜层的面向所述出光层的一面呈第二波浪形,所述第二波浪形的图案与所述第一波浪形的图案互补;所述形貌保护膜层的背向所述出光层的一面呈第三波浪形。
3.如权利要求2所述的有机发光器件,其特征在于,所述形貌保护膜层的材质为氧化硅或氮化硅。
4.如权利要求2所述的有机发光器件,其特征在于,所述出光构件还包括:设置在所述形貌保护膜层之上且与所述形貌保护膜层相接触的平坦层;
所述平坦层的面向所述形貌保护膜层的一面呈第四波浪形,所述第四波浪形的图案与所述第三波浪形的图案互补;所述平坦层的背向所述形貌保护膜层的一面呈平面形。
5.如权利要求1-4任一项所述的有机发光器件,其特征在于,所述有机发光器件为底发射有机发光器件,所述出光构件为所述有机发光器件的衬底基板。
6.如权利要求1-4任一项所述的有机发光器件,其特征在于,所述有机发光器件为底发射有机发光器件,所述有机发光器件还包括:衬底基板以及设置在所述衬底基板之上的薄膜晶体管层;
所述出光构件设置在所述衬底基板与所述薄膜晶体管层之间。
7.一种有机发光器件的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:
在所述有机发光器件的出光侧形成至少包括出光层的透明出光构件,所述出光层的至少一个表面呈第一波浪形。
8.如权利要求7所述的制作方法,其特征在于,所述在所述有机发光器件的出光侧形成至少包括出光层的透明出光构件,具体包括:
提供一载板;
通过调整涂布设备涂布时的移动速度、在相应位置的吐出量或涂布机刀头与所述载板之间的距离,形成具有表面呈第一波浪形的出光层。
9.如权利要求8所述的制作方法,其特征在于,在所述形成具有表面呈第一波浪形的出光层之后,所述制作方法还包括:
在所述出光层之上沉积一层无机层作为形貌保护膜层,以使所述形貌保护膜层的面向所述出光层的一面呈第二波浪形,所述形貌保护膜层的背向所述出光层的一面呈第三波浪形,所述第二波浪形的图案与所述第一波浪形的图案互补。
10.如权利要求9所述的制作方法,其特征在于,在所述在所述出光层之上沉积一层无机层作为形貌保护膜层之后,所述制作方法还包括:
在所述形貌保护膜层之上,涂布与所述形貌保护膜层接触的平坦层,并对所述平坦层进行平坦化,以使所述平坦层的面向所述形貌保护膜层的一面呈第四波浪形,所述平坦层的背向所述形貌保护膜层的一面呈平面形,所述第四波浪形的图案与所述第三波浪形的图案互补。
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