[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板的制作方法，包括在衬底基板上依次制作薄膜晶体管和钝化层的方法，其特征在于，该方法还包括：

在所述钝化层上依次形成反射层和透明导电层；所述反射层通过贯穿所述钝化层的过孔与所述薄膜晶体管的源极或漏极电连接，所述透明导电层包括若干金属离子；

在还原性气体的工作环境中，采用等离子体增强化学气相沉积设备对所述透明导电层进行等离子体处理，使得所述透明导电层包括的所述金属离子被还原出来，形成一金属颗粒层；所述金属颗粒层的厚度为所述透明导电层的厚度的1/10到1/5；

对完成上述步骤的所述透明导电层和所述反射层进行构图工艺，形成像素电极；

其中，在采用所述等离子体增强化学气相沉积设备对所述透明导电层进行等离子体处理的过程中，减小所述等离子体增强化学气相沉积设备中下部电极的功率。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述还原性气体为氢气、氯气、一氧化碳、硫化氢、溴化氢、甲烷、二氧化硫中的任一种气体。

3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述在所述钝化层上依次形成反射层和透明导电层，包括：

通过磁控溅射的方式，在所述钝化层上依次沉积一层金属层和一层透明导电层。

4.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述透明导电层为氧化铟锡、氧化铟锌、氧化锌中的任一种或任意组合。

5.一种采用权利要求1-4任一项所述的制作方法制作形成的阵列基板，包括依次位于衬底基板上的薄膜晶体管和钝化层，其特征在于，还包括位于所述钝化层上的反射层和位于所述反射层上的透明导电层，所述透明导电层包括由若干金属颗粒形成的金属颗粒层。

6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述金属颗粒层的厚度为所述透明导电层的厚度的1/10到1/5。

7.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求5或权利要求6所述的阵列基板。

8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求7所述的显示面板。