[发明专利]一种镀铝阴阳膜及其制备方法

权利要求书

1.一种镀铝阴阳膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)取基体膜在其表面阴膜位置处部分印刷全氟聚醚油形成屏蔽层；

(2)待所述全氟聚醚屏蔽层干燥后，在其印刷边界处喷涂含有金属氧化物纳米粒子的挥发性溶剂；所述金属氧化物纳米粒子为氧化铝纳米粒子；所述金属氧化物纳米粒子与所述挥发性溶剂的质量比为1-5：95-99；

(3)待溶剂挥发干燥后，将所述基体膜置于真空镀铝设备进行常规镀铝处理，所述基体膜上未覆盖所述屏蔽层的部分镀有镀铝层，形成所需阳膜部分，所述基体膜上覆盖所述屏蔽层的部分无镀铝层，即为所述阴膜部分，即得。

2.根据权利要求1所述的镀铝阴阳膜的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中，所述金属纳米粒子的粒径为200-300nm。

3.根据权利要求2所述的镀铝阴阳膜的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中，所述挥发性溶剂包括正庚烷、正己烷或戊烷。

4.根据权利要求1-3任一项所述的镀铝阴阳膜的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中，所述挥发性溶剂中还添加有占所述溶剂量0.2-0.5wt％的过氧化氢酶。

5.根据权利要求4所述的镀铝阴阳膜的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中，所述全氟聚醚油为添加有纳米二氧化硅的改性全氟聚醚油。

6.根据权利要求5所述的镀铝阴阳膜的制备方法，其特征在于，所述纳米二氧化硅的添加量占所述全氟聚醚油的0.5-1wt％。

7.根据权利要求6所述的镀铝阴阳膜的制备方法，其特征在于，所述纳米二氧化硅的粒径为30-100nm。

8.由权利要求5-7任一项所述的方法制备得到的镀铝阴阳膜。