[发明专利]一种宽频带吸波多层薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种宽频带吸波多层薄膜，该多层薄膜为制备于衬底上的多层薄膜，由单元结构周期性排列而成，其特征在于：

单元结构间的间距为1um～10um，单元结构由n个宽度为1μm～30μm的双层条形薄膜堆叠而成，n≥1，双层条形薄膜由下至上为磁性薄膜，隔离层薄膜；各双层条形薄膜的磁性层为同一Fe基材料，厚度均大于20nm，且厚度各不相同；各双层条形薄膜的隔离层材料为SiO₂，Cu或Al₂O₃非磁性材料，厚度相同且大于6nm。

2.如权利要求1所述宽频带吸波多层薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1、将衬底清洗干净，吹干后在衬底表面进行光刻，形成组合胶膜；该胶膜由均匀的条形胶膜组合而成的，各条形胶膜宽度为1μm～10μm，厚度为0.5μm～1.5μm，各条形胶膜的间距宽度为1μm～30μm，条形胶膜的数量大于等于2；

步骤2、将光刻后的衬底置于磁控溅射腔体内的样品载台上固定，采用直流磁控溅射法溅射一层Fe基磁性薄膜，溅射时沿条形胶膜长轴方向外加200Oe-2000Oe的静态磁场，然后采用射频磁控溅射法溅射一层厚度大于6nm的隔离层；

步骤3、重复步骤2的溅射方法反复溅射n次，得到镀膜后的样品；其中，Fe基薄膜厚度均大于20nm，且厚度各不相同；

步骤4、将镀膜后的样品置于丙酮溶液中进行超声清洗将胶膜剥离，最终制得宽频带吸波多层薄膜。