[发明专利]基于双自由度微调机构的红外成像系统空间滤波器及该滤波器的操作方法有效

专利信息
申请号: 201710444210.3 申请日: 2017-06-13
公开(公告)号: CN107085313B 公开(公告)日: 2019-04-16
发明(设计)人: 王治乐;林菲;赵松庆;刘文涛;周程灏;陆敏;朱瑶;张丹;宋培宇;陈博 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: G02B27/46 分类号: G02B27/46;G01J5/20;G01J5/08
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 代理人: 岳昕
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 基于 自由度 微调 机构 红外 成像 系统 空间 滤波器 操作方法
【说明书】:

基于双自由度微调机构的红外成像系统空间滤波器及该滤波器的操作方法,涉及红外成像、景象生成技术领域。本发明是为了解决红外成像系统冷反射的问题。本发明所述的基于双自由度微调机构的红外成像系统空间滤波器,第一旋转框位于腔体的开口处,第一旋转框能够以其中轴为转轴旋转,第一旋转框和第二旋转框通过偏心的旋转销轴转动连接,使得第二旋转框能够以旋转销轴为转轴旋转,第二锁紧钉用于将第一旋转框和第二旋转框相对固定,电阻阵列和镜头均位于腔体内,微透镜阵列嵌固在第二旋转框的中心通孔处,电阻阵列与微透镜阵列分别位于镜头前后二倍焦距处,且电阻阵列的中心、镜头的光轴和第一旋转框的中轴共线。本发明适用于红外成像系统中。

技术领域

本发明属于红外成像、景象生成技术领域。

背景技术

目前国内外红外成像系统中最常应用的景象生成器件为电阻阵列或者数字微镜阵列。在成像过程中,杂散光对成像质量的影响比重很大。而由于电阻阵列和数字微镜阵列的表面为镜面,反射率较高,极易造成透镜、窗口等内部多次反射。为了降低热成像系统的冷反射问题,常常采用对窗口镀减反射膜的方法,但一次反射的杂散光仍对成像造成一定影响,未从根本上解决问题。

发明内容

本发明是为了解决红外成像系统冷反射的问题,现提供基于双自由度微调机构的红外成像系统空间滤波器。

基于双自由度微调机构的红外成像系统空间滤波器,包括:腔体1、电阻阵列2、镜头3、微透镜阵列8和双自由度微调机构,双自由度微调机构包括:第一锁紧钉4、第一旋转框5、第二锁紧钉6、第二旋转框7和旋转销轴9,

第一旋转框5和第二旋转框7均为中心开有通孔的圆板形结构,

第一旋转框5位于腔体1的开口处,第一旋转框5与腔体1之间通过第一锁紧钉4活动连接,使得第一旋转框5能够以其中轴为转轴旋转,

第一旋转框5和第二旋转框7通过偏心的旋转销轴9转动连接,使得第二旋转框7能够以旋转销轴9为转轴旋转,第二锁紧钉6用于将第一旋转框5和第二旋转框7相对固定,

电阻阵列2和镜头3均位于腔体1内,微透镜阵列8嵌固在第二旋转框7的中心通孔处,

电阻阵列2、镜头3、第一旋转框5和第二旋转框7依次排列,电阻阵列2与微透镜阵列8分别位于镜头3前后二倍焦距处,且电阻阵列2的中心、镜头3的光轴和第一旋转框5的中轴共线,

第一旋转框5的中心通孔面积大于第二旋转框7的中心通孔面积。

腔体1的开口端向四周延伸出一环形平面1-1,该环形平面1-1所在面为腔体1的开口端面,环形平面1-1上开有N个弧形通孔A,N个弧形通孔A以环形平面1-1的圆心为对称中心呈中心对称结构排布,且N个弧形通孔A与环形平面1-1同心设置,N为正整数,

第一旋转框5上也开有N个弧形通孔A,第一旋转框5上的N个弧形通孔A所在圆与环形平面1-1上的N个弧形通孔A所在圆重合,当第一旋转框5旋转时,第一旋转框5上的N个弧形通孔A能够分别与环形平面1-1上的N个弧形通孔A一一正对重合或相互交错开,

一个第一锁紧钉4能够同时穿过两个对应的弧形通孔A,使得第一锁紧钉4能够将两个对应的弧形通孔A锁紧或分离。

第一旋转框5上还开有M个弧形通孔B,M个弧形通孔B分布在以旋转销钉9为圆心的圆弧上,第一旋转框5上的M个弧形通孔B位于第一旋转框5上的N个弧形通孔A内侧,M为正整数,

第二旋转框7上也开有M个弧形通孔B,第二旋转框7上的M个弧形通孔B所在圆弧与第一旋转框5上的M个弧形通孔B所在圆弧重合,

当第二旋转框7旋转时,第二旋转框7的M个弧形通孔B能够分别与第一旋转框5上的M个弧形通孔B一一正对重合或相互交错开,

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