[发明专利]一种光束干涉角调整装置及干涉角的调整方法

说明书

本发明涉及光束干涉角调整装置及干涉角的调整方法，该装置包括激光器、分束镜、第一反射镜、第二反射镜、第一透光板、第二透光板和角度规；激光器发出紫外光，分束镜将激光器发出的紫外光分为第一光束和第二光束；第一反射镜反射第一光束穿过第一透光板，第二反射镜反射第二光束穿过第二透光板，第一光束和第二光束最终汇聚于一点；第一反射镜、第二反射镜、第一透光板和第二透光板的位置可调；角度规包括角度规反射镜、精密电动转台和调整架，角度规反射镜反射第一光束至第一透光板上，角度规反射镜反射第二光束至第二透光板上，精密电动转台调整角度规反射镜在水平面上的角度，调整架调整精密电动转台和角度规反射镜二者整体的空间位置。

技术领域

本发明涉及全息技术领域，尤其涉及一种光束干涉角调整装置及干涉角的调整方法。

背景技术

紫外光刻胶作为一种抗刻蚀剂，因其工艺过程简单、容易控制，多年来一直在全息领域被广泛应用。

采用全息技术加工光栅的方法常规工艺流程为：半导体工艺加工晶片的常规工艺流程为：晶片清洁——晶片涂胶——烘烤——曝光——显影。常规的曝光方式是双光束紫外光干涉的方法进行曝光。两束光之间的夹角（即干涉角）的大小决定了光栅的线密度，干涉角越大，光栅线密度越高。根据不同的光栅线密度，计算两束光的夹角，从而达到控制光栅线密度的目的。在该过程中，干涉角的大小对光栅质量至关重要。如：以325nm波长的紫外光进行干涉，两束光的夹角每改变0.1°，光栅的线对数就相差了约5条/mm，这对于线密度在0.1线/mm精度的光栅来说，无疑是不能接受的。所以如何控制两束光的干涉角，至关重要。

发明内容

为了解决上述问题，本发明的目的在于提供一种光束干涉角调整装置及干涉角的调整方法，该装置和调整方法能够将两束光的干涉角控制在秒级的精度。

为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

一种光束干涉角调整装置，包括激光器、分束镜、第一反射镜、第二反射镜、第一透光板、第二透光板和角度规；激光器发出紫外光，分束镜将激光器发出的紫外光分为第一光束和第二光束；第一反射镜反射第一光束穿过第一透光板，第二反射镜反射第二光束穿过第二透光板，第一光束和第二光束最终汇聚于一点；第一反射镜、第二反射镜、第一透光板和第二透光板的位置可调；角度规包括角度规反射镜、精密电动转台和调整架，角度规反射镜反射第一光束至第一透光板上，角度规反射镜反射第二光束至第二透光板上，精密电动转台固定连接在角度规反射镜的下方并调整角度规反射镜在水平面上的角度，调整架连接在精密电动转台的下方并调整精密电动转台和角度规反射镜二者整体的空间位置。

其中，所述第一透光板和第二透光板分别通过一调节底座分别调节高度以及在水平面的转动的角度和位置。

其中，所述调节底座包括底座本体、第一连接杆和第二连接杆，底座本体水平设置，第一连接杆竖直设置且下端固定在底座本体上，第二连接杆竖直设置且下端转动套设在第一连接杆的上部内，第二连接杆的上端固定连接在第一透光板或者第二透光板的下端，第一连接杆上设置有固定卡件，固定卡件穿过第一连接杆与第二连接杆卡接。

其中，所述调整架调整精密电动转台和角度规反射镜二者整体在水平横向位置的X轴、水平纵向位置的Y轴、高度的Z轴、水平面上作圆周运动的R轴和竖直平面上作圆周运动的U轴上的空间位置。

其中，所述第一透光板和第二透光板上均设置有若干间距相同的横向刻度线和纵向刻度线。

使用上述的光束干涉角调整装置调整光束干涉角的方法，包括以下步骤：

激光器发出紫外光，分束镜将紫外光分为第一光束和第二光束，第一反射镜和第二反射镜分别反射第一光束和第二光束汇聚于一点O点，第一光束和第二光束之间的夹角为干涉角，角度为θ；

通过理论计算出需要调整的干涉角的角度θ，确定精密电动转台需要转动的角度为180°-θ；