[发明专利]阻抗匹配装置和阻抗匹配方法有效

专利信息
申请号: 201710454753.3 申请日: 2017-06-15
公开(公告)号: CN109148250B 公开(公告)日: 2020-07-17
发明(设计)人: 杨京;韦刚;卫晶 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 倪斌
地址: 100176 北京市大*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 阻抗匹配 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种阻抗匹配装置,用于匹配等离子体产生设备中射频源以及与射频源连接的负载之间的阻抗,所述阻抗匹配装置包括:

匹配阻抗网络;

电机,用于驱动匹配阻抗网络以提供一定的阻抗;以及

控制器,响应于接收到的射频源的工作模式信息,选择性地发出第一指令或第二指令,其中第一指令指示电机驱动阻抗匹配网络,第二指令指示电机停止驱动以及射频源进行扫频操作,

其中,射频源工作于脉冲level-level模式,level-level模式包括High level阶段和Low level阶段,工作模式信息指示High level阶段或Low level阶段,并且响应于接收到射频源交替地工作于High level阶段或Low level阶段,控制器选择性地发出分别对应的第一指令或第二指令。

2.根据权利要求1所述的阻抗匹配装置,其中,

当工作模式信息指示High level阶段时,控制器发出第一指令,且当模式信号指示Lowlevel时,控制器发出第二指令;或者

当工作模式信息指示Low level阶段时,控制器发出第一指令,且当模式信号指示Highlevel时,控制器发出第二指令。

3.根据权利要求1所述的阻抗匹配装置,其中,射频源的频率为2MHz、13.56MHz、60MHz中至少之一。

4.根据权利要求1所述的阻抗匹配装置,其中,射频源以10Hz-20kHz的调制频率、10%-90%的占空比被脉冲调制。

5.根据权利要求1所述的阻抗匹配装置,其中,等离子体产生设备包括电感耦合等离子体产生设备、电容耦合等离子体产生设备、微波等离子体产生设备或电子回旋共振等离子体产生设备。

6.根据权利要求1所述的阻抗匹配装置,其中,等离子体产生设备用于等离子体刻蚀机。

7.一种对等离子体产生设备中射频源以及与射频源连接的负载之间的阻抗进行匹配的方法,包括:

根据射频源的工作模式信息,选择性地进行以下操作之一:

-指示电机驱动匹配阻抗网络以提供一定的阻抗;以及

-指示电机停止驱动以及射频源进行扫频操作,

其中,射频源工作于脉冲level-level模式,level-level模式包括High level阶段和Low level阶段,工作模式信息指示High level阶段或Low level阶段,并且响应于接收到射频源交替地工作于High level阶段或Low level阶段,选择性地进行分别对应的上述操作之一。

8.根据权利要求7所述的方法,其中,

当工作模式信息指示High level阶段时,指示电机驱动匹配阻抗网络以提供一定的阻抗,且当模式信号指示Low level时,指示电机停止驱动以及射频源进行扫频操作;或者

当工作模式信息指示Low level阶段时,指示电机驱动匹配阻抗网络以提供一定的阻抗,且当模式信号指示High level时,指示电机停止驱动以及射频源进行扫频操作。

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