[发明专利]阵列基板及制作方法

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于：包括基板（1）、多条扫描线（2）、设于扫描线（2）上的有源层（3）、与扫描线（2）交错设置的多条数据线（4）、与有源层（3）接触的漏电极（5）、形成于漏电极（5）上的钝化层（6）及形成于钝化层（6）上的像素电极（7），所述像素电极（7）经位于钝化层（6）上的过孔与漏电极（5）连接，所述漏电极（5）在所述基板（1）上的投影位于所述扫描线（2）在所述基板（1）上的投影内；所述扫描线（2）上位于数据线（4）交错的位置处分别开有扫描线孔（8），所述数据线（4）上与扫描线（2）交错的这部分线体（9）中，线体（9）的一部分线体与扫描线孔（8）重叠，线体（9）的另一部分线体与有源层（3）重叠并相互搭接，所述有源层（3）与数据线（4）平行的边缘与扫描线孔（8）与数据线（4）平行的边缘对齐。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于：至少占线体（9）线宽一半的部分线体与扫描线孔（8）部分重叠，线体（9）其余的部分线体与有源层（3）部分重叠并搭接。

3.根据权利要求1或2所述的阵列基板，其特征在于：所述扫描线孔（8）为矩形孔。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于：所述扫描线孔（8）中与数据线（4）延伸方向相同的过孔第一边缘（10）的长度和有源层（3）中与数据线（4）延伸方向相同的有源层第一边缘（11）的长度相等；所述数据线（4）中与过孔第一边缘（10）垂直的过孔第二边缘（13）的长度至少为数据线（4）线宽的两倍。

5.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于：所述线体（9）中占线体（9）线宽三分之二的部分线体与扫描线孔（8）部分重叠。

6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于：所述扫描线（2）上位于相邻数据线（4）之间设有增宽部（14）。

7.一种阵列基板的制作方法，其特征在于：包括如下步骤：

步骤S01、提供一基板（1），在基板（1）的表面上制作栅电极层并图形化形成扫描线（2）；

步骤S02、在扫描线（2）上沿扫描线（2）的长度方向制作扫描线孔（8）；

步骤S03、在扫描线（2）上制作栅极绝缘层（12）；

步骤S04、在栅极绝缘层（12）上位于每个扫描线孔（8）旁分别制作有源层（3）；

步骤S05、在栅极绝缘层（12）上分别制作与扫描线（2）交错设置的数据线（4）、漏电极（5），所述漏电极（5）与有源层（3）接触，所述漏电极（5）在所述基板（1）上的投影位于所述扫描线（2）在所述基板（1）上的投影内，所述数据线（4）上与扫描线（2）交错的这部分线体（9）中，线体（9）的一部分线体与扫描线孔（8）重叠，线体（9）的另一部分线体与有源层（3）重叠并相互搭接，所述有源层（3）与数据线（4）平行的边缘与扫描线孔（8）与数据线（4）平行的边缘对齐；

步骤S06、在数据线（4）以及漏电极（5）上制作钝化层（6），并在钝化层（6）上位于漏电极（5）处制作过孔；

步骤S07、在钝化层（6）上制作像素电极（7），所述像素电极（7）经钝化层（6）上的过孔与漏电极（5）接触。

8.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于：所述步骤S05中至少占线体（9）线宽一半的部分线体与扫描线孔（8）部分重叠，线体（9）其余的部分线体与有源层（3）部分重叠并搭接。